[发明专利]用电子束柱阵列测量叠对及边缘放置误差

权利要求书

1.一种计量系统，其包括：

多个电子束测量柱，其各自沿着第一方向与所述多个电子束测量柱中的邻近电子束测量柱在空间上分隔开固定距离，每一电子束测量柱包含：

电子束源，其经配置以产生初级电子束；

束偏转器，其经配置以调整所述初级电子束到经受测量的样品上的入射位置；及

检测器，其经配置以检测响应于所述入射的初级电子束而来自所述样品的次级电子且基于所检测次级电子而产生输出信号；

样品定位子系统，其经配置以沿与安置于样品上的裸片行对准的第二方向扫描所述样品，其中所述第一方向相对于所述第二方向以倾斜角定向，使得所述多个电子束测量柱中的每一者对不同裸片行的相同特征行执行一维测量；及

计算系统，其经配置以：

接收由所述电子束测量柱中的每一者产生的所述输出信号；且

基于所述输出信号而估计叠对值、边缘放置误差值或其两者。

2.根据权利要求1所述的计量系统，其中所述第一方向是通过用所述样品定位子系统的旋转载台旋转所述样品而相对于所述第二方向以所述倾斜角定向。

3.根据权利要求1所述的计量系统，其进一步包括：

预对准载台，其在将所述样品装载到所述样品定位子系统上之前将所述样品定向，使得所述第一方向相对于所述第二方向以所述倾斜角定向。

4.根据权利要求1所述的计量系统，其中所述第一方向是通过相对于所述样品旋转所述多个电子束测量柱而相对于所述第二方向以所述倾斜角定向。

5.根据权利要求1所述的计量系统，其中所述束偏转器经配置以响应于所述样品定位子系统的定位误差的指示而调整所述初级电子束到所述经受测量的样品上的入射位置。

6.根据权利要求1所述的计量系统，其中所述束偏转器经配置以调整所述初级电子束到所述经受测量的样品上的入射位置以对应于所述经受测量的特征行。

7.根据权利要求1所述的计量系统，其中所述样品定位子系统相对于所述多个电子束测量柱的定位可重复性小于1纳米。

8.根据权利要求1所述的计量系统，其中对所述叠对值、所述边缘放置误差值或其两者的所述估计是基于所述输出信号与设计参考数据的比较。

9.根据权利要求1所述的计量系统，其中入射到所述样品上的所述初级电子束的测量点大小小于10纳米。

10.一种计量系统，其包括：

多个电子束测量柱，其各自沿着柱对准方向与邻近电子束测量柱在空间上分隔开固定距离；

样品定位子系统，其经配置以沿晶片扫描方向扫描所述多个电子束测量柱下面的样品，所述晶片扫描方向平行于安置于所述样品上的裸片行；及

计算系统，其经配置以：

相对于所述柱对准方向以倾斜角将所述样品的所述晶片扫描方向定向，使得所述多个电子束测量柱中的每一者对不同裸片行的相同特征行执行一维测量；且

传递致使所述晶片被重新定向到所要定向的命令信号。

11.根据权利要求10所述的计量系统，其中所述多个电子束测量柱中的每一者包括：

电子束源，其经配置以产生初级电子束；

束偏转器，其经配置以调整所述初级电子束到经受测量的样品上的入射位置；及

检测器，其经配置以检测响应于所述入射的初级电子束而来自所述样品的次级电子且基于所检测次级电子而产生输出信号。

12.根据权利要求11所述的计量系统，其中所述计算系统进一步经配置以：

接收由所述电子束测量柱中的每一者产生的所述输出信号；且

基于所述输出信号而估计叠对值、边缘放置误差值或其两者。