[发明专利]一种粒子疗法系统

权利要求书

1.一种粒子疗法系统，包括：

粒子加速器，用于输出用于施加到辐照目标的粒子束；

扫描系统，用于将粒子束扫描扫过至少一部分辐照目标；

自适应孔，其在粒子加速器和辐照目标之间，所述自适应孔包括能移入和移出粒子束的路径的结构；所述自适应孔还包括主托架，其联接到所述结构，以沿相对于辐照目标的第一维度将所述结构相对于辐照目标移动；所述自适应孔还包括副托架，所述副托架联接到所述主托架和所述结构，以相对于所述辐照目标沿第二维度移动所述结构；所述副托架包括多个叶片，所述叶片相对于所述粒子束可伸出和可缩回以在扫描期间在处理区域产生修整单个或多个粒子束的斑的形状；和

控制系统，其包括一个或多个处理设备，被配置为执行操作，所述操作包括：

从治疗计划过程接收基于用于辐照目标的剂量分布的信息；所述信息由通过粒子射束形状和自适应孔配置的不同组合来获得与目标剂量匹配的所得剂量的迭代产生；和

基于所述信息配置自适应孔，其中，配置自适应孔包括移动所述结构中的一个结构或主托架中的至少一个；或移动副托架中的至少一个副托架；或伸出和缩回一个或多个叶片。

2.根据权利要求1所述的粒子疗法系统，其中，所述信息识别预先修整的斑的特征，所述特征存储在计算机存储器中的库中；和

其中，配置自适应孔包括伸出或缩回所述一个或多个叶片以修整粒子束的斑，使得粒子束的斑逼近预先修整的斑。

3.根据权利要求2所述的粒子疗法系统，其中，所述信息指示预先修整的斑将要在哪里形成在辐照目标上；并且

其中，配置自适应孔包括基于预先修整的斑将要在哪里形成在辐照目标上来伸出或缩回所述一个或多个叶片。

4.根据权利要求2所述的粒子疗法系统，其中，所述特征包括一个或多个参数，所述一个或多个参数包括与预先修整的斑相关联的半径或所述预先修整的斑的旋转角中的至少一个。

5.如权利要求1所述的粒子疗法系统，其中，所述信息识别预先修整的斑的特征；并且

其中，配置自适应孔包括以逐个斑为基础伸出或缩回所述一个或多个叶片。

6.根据权利要求5所述的粒子疗法系统，其中，配置自适应孔包括伸出或缩回所述一个或多个叶片并且移动至少一个副托架和主托架，使得至少两个相继的斑具有不同尺寸或不同形状中的至少一个。

7.根据权利要求1所述的粒子疗法系统，其中，所述信息包括用于与辐照目标相关联的辐射场的修整曲线的规范；并且

其中，配置自适应孔包括伸出或缩回所述一个或多个叶片以产生该修整曲线。

8.根据权利要求7所述的粒子疗法系统，其中，所述规范识别修整曲线相对于已知点的位置或形状中的至少一个。

9.根据权利要求1所述的粒子疗法系统，其中，所述信息包括用于所述辐照目标的不同层的修整曲线的规范；并且

其中，配置自适应孔包括基于用于辐照目标的每层的规范，伸出或缩回所述一个或多个叶片，并且移动至少一个副托架或主托架，以产生用于所述每层的修整曲线。

10.根据权利要求1所述的粒子疗法系统，其中，所述信息包括用于与辐照目标相关联的辐射场的单个修整曲线的规范；并且

其中，配置自适应孔包括伸出或缩回所述一个或多个叶片以产生所述单个修整曲线，所述单个修整曲线用于修整用于辐照目标的多个层的辐射场。

11.根据权利要求1所述的粒子疗法系统，其中，所述信息包括用于辐照目标的辐射场的自适应孔的配置的规范；并且

其中，配置自适应孔包括基于用于自适应孔的配置的规范来伸出或缩回所述一个或多个叶片，并且移动至少一个副托架或主托架。