[发明专利]定位系统和光刻设备

权利要求书

1.一种用于对物体进行定位的定位系统，所述定位系统包括：

工作台，被配置为保持所述物体，所述工作台在移动范围内在第一方向上是可移动的；

平衡质量块；

位置测量系统，包括多个编码头；以及

致动器系统，被配置为在所述第一方向上驱动所述工作台，同时在与所述第一方向相反的第二方向上驱动所述平衡质量块，其中当所述致动器系统提供用于驱动所述工作台的驱动力时，与所述驱动力相对应的反作用力被产生，以用于驱动所述平衡质量块；

其中，当所述工作台正在所述第一方向上移动、并且处于所述移动范围的末端处时，所述定位系统被布置为使所述工作台正面撞向所述平衡质量块，

其中所述位置测量系统包括所述多个编码头的第一子集，以当所述工作台处在第一位置时确定所述工作台的位置，并且其中所述位置测量系统包括所述多个编码头的第二子集，以当所述工作台处在第二位置时确定所述工作台的所述位置；

其中所述工作台具有第一表面，当所述工作台在所述第一方向上移动时所述第一表面形成前表面，所述平衡质量块具有第二表面，并且所述工作台被布置为利用所述前表面撞向所述第二表面，并且

其中：

所述前表面具有用于与所述第二表面接触的接触区域，

所述工作台具有第一重心，

当所述接触区域与所述第二表面接触时，所述第二表面在所述接触区域上施加碰撞力，以及

所述第一重心和合成碰撞力平行于所述第一方向对齐。

2.根据权利要求1所述的定位系统，其中所述第二子集具有与所述第一子集不同的至少一个编码头。

3.根据权利要求1或2所述的定位系统，其中在从所述第一子集切换到所述第二子集期间，所述位置测量系统使用所述第一子集和所述第二子集两者来确定所述工作台的所述位置。

4.根据权利要求1至3中的一项所述的定位系统，其中所述致动器系统包括沿着所述第一方向被布置在所述工作台或者所述平衡质量块上的多个线圈。

5.根据前述权利要求中的一项所述的定位系统，其中所述工作台进一步包括短行程模块和长行程模块，所述致动器系统被布置为相对于所述平衡质量块移动所述长行程模块，所述长行程模块被布置为相对于所述长行程模块移动所述短行程模块，所述短行程模块被配置为保持所述物体，并且所述短行程模块和/或所述长行程模块包括所述前表面。

6.根据前述权利要求中任一项所述的定位系统，其中所述平衡质量块具有第二重心，并且其中所述第一重心、所述合成碰撞力和所述第二重心平行于所述第一方向对齐。

7.根据权利要求6所述的定位系统，其中所述质量块包括多个平衡质量块部分，并且所述平衡质量块部分的组合重心形成所述第二重心。

8.根据权利要求6或权利要求7所述的定位系统，其中所述致动器系统被配置为在力心处提供合成驱动力，以用于在所述第一方向上驱动所述工作台，并且其中所述力心、所述第一重心、所述第二重心和所述合成碰撞力平行于所述第一方向对齐。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的定位系统，还包括碰撞缓冲件，其中所述碰撞缓冲件形成所述接触区域和/或所述第二表面。

10.根据权利要求9所述的定位系统，其中：

所述碰撞缓冲件被布置为当所述工作台撞向所述平衡质量块时以最大碰撞减速度使所述工作台减速，

所述致动器系统被布置为使所述工作台以最大驱动加速度加速，以及

所述最大碰撞减速度和所述最大驱动加速度彼此基本相等。

11.根据前述权利要求中任一项所述的定位系统，其中所述平衡质量块围绕所述工作台。

12.根据前述权利要求中任一项所述的定位系统，还包括基架，所述基架被配置为支撑所述平衡质量块，所述平衡质量块在所述第二方向上相对于所述基架是可移动的。