[发明专利]紫外线照射装置以及方法

说明书

一种通过简易的结构对来自紫外线发光二极管(UV－LED)的发热高效地进行冷却的装置。在具有敞开端(10a)和紫外线透光性的封闭端(10b)的外壳(10)内容纳有UV－LED(11b)。隔着封闭端(10b)的一侧的外壳(10)而与被处理液体接触，将来自UV－LED(11b)的紫外线照射到该被处理液体，并且由该被处理液体冷却外壳(10)。由此，无需使用导入用于冷却UV－LED(11b)的专用的冷却用流体的结构，能够通过简易的结构对来自UV－LED(11b)的发热高效地进行冷却。也可以在外壳(10)的敞开端(10a)的一侧具备用于将由UV－LED(11b)产生的发热放出到外部的散热部(12)。也可以构成为散热部(12)的一部分直接与被处理液体接触。

技术领域

本发明涉及一种用于使用紫外线发光二极管(UV－LED)来对被处理液体进行紫外线处理的紫外线照射装置以及方法，尤其涉及一种通过简易的结构对来自紫外线发光二极管的发热高效地进行冷却的技术。本发明例如能够应用于将紫外线照射到超纯水、纯水、净水、污水等被处理液体来进行生物的灭活、有机物分解等的技术领域，还能够应用于在医药、农药等药品制造的化学工厂进行的光氯化、光亚硝化等光化学反应的技术领域。

背景技术

在使用半导体元件那样的发热体的装置中，为了冷却而使用散热器、降温装置。在紫外线照射装置中，在作为光源而使用紫外线发光二极管的情况下，也需要进行适当的冷却或者散热。在下述专利文献1中，公开了为了冷却紫外线发光二极管而构成为导入专用的冷却用流体。另外，在对处于加压环境下的被处理液体照射紫外线的装置中，对于与处于加压环境下的被处理液体接触的光源装置，要求所需的耐压性。在下述专利文献2中，公开了构成为将从紫外线发光二极管等紫外线光源发出的紫外线经由光纤传递至与处于加压环境下的被处理液体接触的位置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2009-65128

专利文献2：日本专利特开2016-64111

在所述专利文献1中，为了冷却紫外线发光二极管，必须构成为导入专用的冷却用流体，所以，装置的构造复杂化，并且成本变高。在所述专利文献2中，远离经加压的被处理液体地配置紫外线发光二极管等紫外线光源，所以，不需要令紫外线光源装置具有耐压性，从而能够解决耐压性的问题。但是，关于用于冷却紫外线发光二极管等紫外线光源的钻研，没有特别的公开，因而，为此，只能使用例如与所述专利文献1相同的专用的冷却用流体。

发明内容

本发明是鉴于上述内容而完成的，其目的在于，在用于使用紫外线发光二极管来对被处理液体进行紫外线处理的紫外线照射装置中，通过简易的结构对来自紫外线发光二极管的发热高效地进行冷却。

本发明涉及一种紫外线照射装置，其特征在于，具备：外壳，其具有敞开端和紫外线透光性的封闭端；以及紫外线发光二极管，其容纳于所述外壳内，隔着所述封闭端的一侧的所述外壳而与被处理液体接触，将来自所述紫外线发光二极管的紫外线照射到该被处理液体，并且由该被处理液体冷却所述外壳。

根据本发明，容纳有紫外线发光二极管的外壳与被处理液体接触，从而由该被处理液体冷却该外壳，据此，以对由容纳于该外壳内的紫外线发光二极管产生的发热进行冷却的方式发挥作用。因此，无需如现有技术那样使用导入用于冷却紫外线发光二极管的专用的冷却用流体的结构，能够通过简易的结构对来自紫外线发光二极管的发热高效地进行冷却。另外，散热部与外壳接触或者接近，从而能够通过由与外壳接触的被处理液体实施的冷却，促进散热部将从紫外线发光二极管吸收的热向外部放出。