[发明专利]流量比率控制装置、存储有流量比率控制装置用程序的程序存储介质及流量比率控制方法

说明书

为了提供一种不仅能达成目标流量比率而且能对到达成该目标流量比率为止所耗费的时间进行控制的流量比率控制装置，本流量比率控制装置包括：主流道；多个分支流道，从所述主流道的末端分支；多个流体控制装置，设于各个分支流道上，分别包括阀以及配置于所述阀的下游侧的压力式流量传感器；以及动作设定部，基于目标流量比率进行设定，以使多个流体控制装置中的任意一个流体控制装置以流速控制模式进行动作，并且使除此以外的流体控制装置以流量控制模式进行动作，所述流速控制模式是用于对比各个阀更靠上游侧的流体的流速进行控制的模式，所述流量控制模式是基于所述目标流量来控制流量的模式。

技术领域

本发明涉及一种流量比率控制装置，其对在从主流道分支的多个分支流道中流动的流体的流量比率进行控制，以使该流量比率成为目标流量比率。

背景技术

在半导体制造工序(process)中，为了使腔室(chamber)内的气体浓度均匀化，使用流量比率控制装置(比率控制器(ratio controller))从腔室的多个部位以规定的流量比率导入气体。

所述流量比率控制装置包括：主流道，包含多个成分的混合气体在该主流道中流动；多个分支流道，从所述主流道的末端分支，与腔室连接；以及质量流量控制器(massflow controller)，分别设于各个分支流道上(参照专利文献1)。多个质量流量控制器中的一个质量流量控制器进行压力控制，以使压力成为预定的目标压力，其它的质量流量控制器进行流量控制，以使流量成为根据目标流量比率和在各个分支流道中流动的气体流量的总和计算出的各个目标流量。这样，各个分支流道的质量流量控制器进行动作，由此实现目标流量比率。

但是，在近年的半导体制造工序中，不仅要求能够准确地控制气体的流量比率，而且也要求缩短到能够达成该流量比率为止所耗费的时间，并且要求能够使该时间总是固定。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利公表公报特表2008-538656号

发明内容

本发明要解决的技术问题

本发明是鉴于如上所述的问题而做出的发明，本发明的目的在于提供一种不仅能够达成目标流量比率，而且能够对到达成该目标流量比率为止所耗费的时间进行控制的流量比率控制装置、流量比率控制装置用程序及流量比率控制方法。

解决技术问题的技术方案

即，本发明的流量比率控制装置，其包括：主流道；多个分支流道，从所述主流道的末端分支；多个流体控制装置，设于各个所述分支流道上，分别包括阀以及配置于所述阀的下游侧的压力式的流量传感器；目标接收部，接收目标流量比率，所述目标流量比率是在各个所述分支流道中流动的流体的流量的分配比率；目标流量计算部，基于由各个所述流量传感器测量的在各个所述分支流道中流动的流体的测量流量的总和以及所述目标流量比率，计算出各个所述分支流道的目标流量；以及动作设定部，基于所述目标流量比率进行设定，以使多个流体控制装置中的任意一个流体控制装置以流速控制模式进行动作，并且使以流速控制模式进行动作的所述一个流体控制装置以外的流体控制装置以流量控制模式进行动作，所述流速控制模式是用于对比各个所述阀更靠上游侧的流体的流速进行控制的模式，所述流量控制模式是基于所述目标流量来控制流量的模式。

按照这样的流量比率控制装置，能够各别地进行控制，以使通过设于分支流道上的一个流体控制装置控制流体的流速，并且通过剩余的流体控制装置来使在各个分支流道中流动的流体流量实现目标流量比率。

此外，由于各个流体控制装置包括压力式流量传感器，因此在流量传感器中无流道分支，因而在比层流元件更靠上游侧，流体容易滞留，能够缩短到达到实现目标流量或流速所需的压力为止的时间。