[发明专利]量测方法、设备和计算机程序

权利要求书

1.一种确定衬底上的目标的特性的方法，包括：

确定多个强度非对称性测量，其中所述多个强度非对称性测量中的每个强度非对称性测量是根据从成对的互补像素中的相应对的互补像素的测量强度确定得到的，而不经过对所述测量强度进行平均化；

其中所述成对的互补像素中的每对互补像素包括在所述目标的第一图像中的第一图像像素和在所述目标的第二图像中的第二图像像素，

其中所述第一图像是从由所述目标散射的第一辐射获得的，以及所述第二图像是从由所述目标散射的第二辐射获得的，以及

其中所述第一辐射和所述第二辐射包括互补的非零阶衍射；以及

使用所述成对的互补像素的所述多个强度非对称性测量来确定所述目标的所述特性。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述目标的所述特性包括套刻。

3.根据权利要求1所述的方法，还包括：

优化在所述第一图像和所述第二图像之间的相对位置偏移以识别所述成对的互补像素。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述优化使得用于形成成对的互补像素的所述第一图像像素的、由所述第一辐射行进穿过所述目标的光学路径长度与用于形成所述成对的互补像素的所述第二图像像素的、由所述第二辐射行进穿过所述目标的光学路径长度相同。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述优化使得用于形成成对的互补像素的所述第一图像像素的、由所述第一辐射行进穿过所述目标的光学路径与用于形成所述成对的互补像素的所述第二图像像素的、由所述第二辐射行进穿过所述目标的光学路径是对称的。

6.根据权利要求3所述的方法，其中，所述优化包括：

确定对于所述第一图像和所述第二图像的多个试验偏移的、在所述目标的灵敏度系数与所述多个强度非对称性测量之间的关系；以及

选择所述关系最佳拟合函数所针对的偏移。

7.根据权利要求3所述的方法，其中，所述目标包括具有第一偏置的第一子目标和具有第二偏置的第二子目标，以及所述优化包括：

确定对于多个试验偏移的、在来自所述第一子目标的所述强度非对称性测量与来自所述第二子目标的所述强度非对称性测量之间的关系；以及

选择所述关系最佳拟合函数所针对的偏移。

8.根据权利要求6所述的方法，其中，所述函数包括线性函数。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述确定所述目标的所述特性包括根据所述线性函数的斜率确定所述目标的所述特性。

10.根据权利要求1所述的方法，还包括：

确定源自所述目标中的工艺非对称性的强度非对称性分布，其中工艺非对称性包括并非源自层之间的套刻偏移的所述目标中的任何非对称性。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，所述目标包括在不同层中的两个结构，并且在所述两个结构之间的、在垂直于所述衬底的平面的方向上的距离大于1μm。

12.根据权利要求1所述的方法，其中，所述目标包括在不同层中的两个结构，并且在所述两个结构之间的、在垂直于所述衬底的平面的方向上的距离大于2μm。

13.一种量测设备，包括：

照射系统，被配置为采用辐射照射目标；以及

检测系统，被配置为检测由所述目标的照射引起的经散射的辐射；

其中所述量测设备可操作为执行根据权利要求1至12中任一项所述的方法。

14.一种包括计算机程序的计算机程序载体，所述计算机程序包括处理器可读指令，当所述处理器可读指令被运行在处理器控制的设备上时，所述处理器可读指令使得所述处理器控制的设备以执行根据权利要求1至12中任一项所述的方法。