[发明专利]用于导出校正的方法和设备、用于确定结构性质的方法和设备、器件制造方法

权利要求书

1.一种导出用于光学系统的校正的方法，所述光学系统可操作用于将照射辐射传送到目标结构并收集在与所述目标结构的相互作用之后的辐射，所述方法包括：

获得第一强度轮廓，所述第一强度轮廓表示在根据第一照射轮廓照射所述光学系统的光瞳时由所述光学系统收集的辐射；

获得第二强度轮廓，所述第二强度轮廓表示在根据不同于所述第一照射轮廓的第二照射轮廓照射所述光学系统的所述光瞳时由所述光学系统收集的辐射；以及

使用所述第一强度轮廓和所述第二强度轮廓来导出校正，与和目标结构的相互作用相反，所述校正用于减轻所述照射辐射与所述光学系统的相互作用的影响，

其中在所述第一照射轮廓和所述第二照射轮廓的每一个轮廓中，小于或等于所述光瞳的大约一半的所述光瞳的一部分被照射，而所述光瞳的剩余部分基本上是暗的，被照射的部分和暗的部分在所述第一照射轮廓和所述第二照射轮廓之间是不同的。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，使用所述第一强度轮廓和所述第二强度轮廓来导出所述校正是使用所述第一强度轮廓和所述第二强度轮廓的不同部分来合成表示所述照射辐射与所述光学系统的相互作用的影响的强度轮廓。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一强度轮廓和所述第二强度轮廓中的每一个轮廓表示所述光学系统的后焦平面中的辐射的轮廓，并且其中使用所述第一强度轮廓和所述第二强度轮廓来导出所述校正是使用与所述后焦平面的不同区域相对应的所述第一强度轮廓和所述第二强度轮廓的部分。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，获得另一强度轮廓，所述另一强度轮廓表示在根据不同于所述第一照射轮廓和所述第二照射轮廓的另一照射轮廓照射所述光学系统的所述光瞳时由所述光学系统收集的辐射，所述使用所述第一照射轮廓和所述第二照射轮廓来导出所述校正是使用所述第一强度轮廓、所述第二强度轮廓和所述另一强度轮廓来导出所述校正。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光学系统包括固体浸没透镜和安装件，所述安装件可操作用于将所述固体浸没透镜保持在距所述目标结构一定距离内，所述距离小于所述照射辐射的波长。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述第一照射轮廓和所述第二照射轮廓表示在所述距离内没有目标结构的情况下收集的辐射。

7.根据权利要求1所述的方法，还包括：

获得第三强度轮廓，所述第三强度轮廓表示在与所述光学系统和参考结构相互作用之后由所述光学系统收集的辐射；以及

使用所述第三强度轮廓来导出进一步的校正。

8.根据权利要求7所述的方法，进一步地，其中，所述光学系统包括固体浸没透镜和安装件，所述安装件可操作用于将所述固体浸没透镜保持在距所述目标结构一定距离内，所述距离小于所述照射辐射的波长，并且还包括获得第四强度轮廓，所述第四强度轮廓表示在不存在SIL的情况下与所述光学系统和所述参考结构的相互作用之后由所述光学系统收集的辐射，并且使用所述第三强度轮廓和所述第四强度轮廓二者来导出所述进一步的校正。

9.根据权利要求7所述的方法，还包括：获得参考强度轮廓，所述参考强度轮廓表示所述照射辐射在与所述光学系统和目标结构的相互作用之前的特性，其中使用所述第三强度轮廓来导出进一步的校正是使用所述参考强度轮廓来导出所述进一步的校正。