[发明专利]用于工艺量测的差分目标设计和方法

权利要求书

1.一种评估图案化工艺的方法，所述方法包括：

获得第一量测目标的第一测量的结果；

获得第二量测目标的第二测量的结果，所述第二量测目标与所述第一量测目标具有结构差异，所述结构差异生成在所述第一量测目标与所述第二量测目标之间的、所述图案化工艺的工艺参数的灵敏度差异和/或偏移，所述第一量测目标和所述第二量测目标生成相对于第三量测目标的、所述工艺参数的灵敏度差异和/或偏移；

由计算机系统，基于所述第一测量的结果和所述第二测量的结果之间的差异，确定与所述图案化工艺有关的第一信号；以及

由所述计算机系统，基于所述第一测量的结果和所述第三量测目标的第三测量的结果之间的差异与所述第二测量的结果和所述第三测量的结果之间的差异的相加信号，确定与所述图案化工艺有关的第二信号，

其中所述第一信号表示从另一个工艺参数的变化有效地解耦的所述工艺参数，所述第二信号表示从所述工艺参数的变化有效地解耦的所述另一工艺参数。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述确定进一步包括：基于所述第一信号和所述第二信号导出工艺窗口标记信号。

3.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：将所确定的值与工艺窗口阈值进行比较，以确定所述图案化工艺是否正确地操作。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一测量和所述第二测量的结果包括来自光学量测系统的强度和/或椭圆率信号值，或从来自光学量测系统的强度和/或椭圆率信号导出。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一测量和所述第二测量的结果包括来自基于衍射的量测系统的信号值，或从来自基于衍射的量测系统的信号值导出。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述工艺参数包括所述图案化工艺的图案化步骤的焦距或剂量。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述结构差异是使用图案形成装置上的光学邻近校正来创建的和/或所述结构差异是所述图案形成装置上的辅助特征。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一量测目标和所述第二量测目标是基于器件的图案的公共产品图案或用于形成器件的图案的公共产品图案。

9.一种非瞬态计算机可读存储介质，包括用于使处理器执行根据权利要求1至8中任一项所述的评估图案化工艺的方法的机器可读指令。

10.一种评估图案化工艺的系统，所述系统包括：

检查装置，被配置为在量测目标上提供辐射束并且检测由所述目标重定向的辐射，以确定图案化工艺的参数；以及

根据权利要求9所述的非瞬态计算机可读存储介质。