[发明专利]确定结构的特性的方法、检查设备以及器件制造方法

权利要求书

1.一种确定结构的特性的方法，所述方法包括：

使得光学系统收集通过与所述结构交互而修改的辐射；

使得在所述光学系统的捕获平面中观测所收集的辐射的分布，其中与所述光学系统相关联的条件误差在观测之间可变；以及

基于辐射的至少一个观测分布，计算所述结构的所述特性，所述计算包括对于所述分布的、因特定于所述观测的所述条件误差所致的失真的校正，并且

其中所述校正是基于单位校正的，所述单位校正相对于单位条件误差而被限定。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述校正根据特定于所述观测的所述条件误差而被缩放。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，基于所述光学系统的仿真，根据计算推导得到所述单位校正。

4.根据权利要求2所述的方法，其中，所述校正与所述条件误差成比例地线性缩放。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光学系统的所述条件误差在所述观测的时间段内变化，以及其中在所述计算中使用在多个子周期处记录的多个条件误差值。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述失真包括所述辐射在所述光学系统的所述捕获平面中的所述分布的面内失真，以及所述校正包括对于所述面内失真的校正。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述失真包括在所述捕获平面之上的相位的失真，以及所述校正包括所述相位的失真的校正。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述捕获平面是所述光学系统的后焦平面，所述辐射的分布包括散射光谱。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，所述特性的所述计算是基于在所述观测分布与仿真分布之间的比较。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光学系统包括可操作用于将光学元件保持在距目标结构小于所述辐射的波长的距离内的安装件。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述光学元件是固体沉浸透镜，所述固体沉浸透镜在物镜的焦点处可操作为增大所述光学系统的有效值孔径NA在1之上。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述条件误差涉及将所述光学元件相对于所述物镜的所述焦点定位中的误差。

13.根据权利要求1所述的方法，其中，所述条件误差是聚焦误差。

14.一种用于确定结构的特性的设备，所述设备包括：处理器，所述处理器被设置为基于辐射在光学系统的捕获平面中的分布的至少一个观测而计算所述结构的所述特性，所述光学系统具有所收集的、通过与所述结构交互而已被修改的辐射，

其中与所述光学系统相关联的条件误差在观测之间可变，

其中所述处理器被配置为对于所述分布的因特定于所述观测的所述条件误差所致的失真而应用校正，以及

其中所述校正是基于单位校正的，所述单位校正相对于单位条件误差而被限定。

15.一种计算机存储介质，包括用于使处理系统执行根据权利要求1所述方法的机器可读指令。