[发明专利]用于制造吸光层的溅射靶材

权利要求书

1.一种用于制造吸光层的溅射靶材，该溅射靶材由一种靶材材料组成，该材料包含氧化物相并且相比较化学计量的组成具有减少的含氧量，其特征在于，所述靶材材料包含由钼组成的金属相(Mo相)，并且所述氧化物相包含氧化锌(ZnO相)和分子式为MNO_n-x的混合氧化物相，其中，M代表主要成分锌(Zn)，N代表至少一种副成分铌(Nb)和/或钛(Ti)，并且其中，x大于0并且n表示所述混合氧化物相的化学计量组成的氧原子数量。

2.根据权利要求1所述的溅射靶材，其特征在于，所述混合氧化物相由Zn₃Nb₂O_8-x和/或Zn₂TiO_4-x和/或ZnNb₂O_6-x组成。

3.根据权利要求1或者2所述的溅射靶材，其特征在于，在所述靶材材料中，所述混合氧化物相形成具有一尺寸的相范围，该相范围在横截面磨片中具有小于300μm²，优选小于200μm²的最大面积。

4.根据前述权利要求中任一项所述的溅射靶材，其特征在于，在所述靶材材料中，所述ZnO相形成具有一尺寸的相范围，该相范围在横截面磨片中具有小于100μm²的最大面积。

5.根据前述权利要求中任一项所述的溅射靶材，其特征在于，在所述靶材材料中，所述ZnO相的体积百分比处在20％与85％之间的范围中。

6.根据前述权利要求中任一项所述的溅射靶材，其特征在于，在所述靶材材料中，所述Mo相的体积百分比处在10％与30％之间的范围中。

7.根据前述权利要求中任一项所述的溅射靶材，其特征在于，所述混合氧化物相的体积百分比为至少7％并且优选处在7％到60％的范围中。

8.根据前述权利要求中任一项所述的溅射靶材，其特征在于，在所述靶材材料处，由Zn₃Nb₂O_8-x组成的混合氧化物相的体积百分比处在7％与60％之间的范围中并且x>0.4。

9.根据前述权利要求中任一项所述的溅射靶材，其特征在于，在所述靶材材料处，由ZnNb₂O_6-x组成的混合氧化物相的体积百分比处在0％与10％之间的范围中并且x>0.3。

10.根据前述权利要求中任一项所述的溅射靶材，其特征在于，在所述靶材材料处，由Zn₂TiO_4-x组成的混合氧化物相的体积百分比处在5％与60％之间的范围中并且x>0.2。

11.根据前述权利要求中任一项所述的溅射靶材，其特征在于，所述靶材材料包含体积百分比小于10％的、分子式为NO_n的单一相，其中N代表副成分铌(Nb)和/或钛(Ti)。

12.根据权利要求11所述的溅射靶材，其特征在于，所述靶材材料包含体积百分比小于10％的、由NbO₂或者Nb₂O₅组成的单一氧化铌相和以TiO₂或者TiO形式的单一氧化钛相。

13.根据前述权利要求中任一项所述的溅射靶材，其特征在于，在所述靶材材料中，所述Mo相形成最大横向尺寸小于25μm的相范围。

14.根据前述权利要求中任一项所述的溅射靶材，其特征在于，所述靶材材料具有平均晶粒尺寸小于265nm的晶体结构。