[发明专利]MENIN-MLL相互作用的稠合二环抑制剂有效
申请号: | 201780056197.2 | 申请日: | 2017-09-13 |
公开(公告)号: | CN109715634B | 公开(公告)日: | 2022-09-27 |
发明(设计)人: | P.R.安吉博;V.潘德;B.赫克特;D.J.科罗斯基;O.A.G.克洛勒;A.N.帕特里克 | 申请(专利权)人: | 詹森药业有限公司 |
主分类号: | C07D519/04 | 分类号: | C07D519/04;A61P35/00;A61P3/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 初明明;黄登高 |
地址: | 比利时.比*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | menin mll 相互作用 稠合二环 抑制剂 | ||
1.一种具有式 (I) 的化合物
(I),
或其立体异构形式,其中
R1选自CH3、CH2F、CHF2和CF3;
R2选自氢和CH3;
L1是具有式 (a) 的7元至9元稠合的杂环
(a)
其中
a表示连接至噻吩并嘧啶基杂环的位置;
m等于0或1;
n等于0或1;
p等于0、1或2;
q等于0或1;
R选自氢和氧代基;并且
--L2-R3选自 (a)、(b)、(c)、(d)或 (e),其中
(a) L2选自SO2、CR4aR4b,和-CHR4aCHR5-;其中
R4a选自氢;-C(=O)NR7aR7b;任选地被选自以下的取代基取代的C1-4烷基:氟、-CN、-OR8、和-NR9aR9b;以及含有至少一个氮、氧或硫原子的C-连接的4元至7元非芳香族杂环基;
R4b选自氢和甲基;或
R4a和R4b连同它们所附接的碳原子一起形成C3-5环烷基或含有氧原子的C-连接的4元至6元杂环基;
R5选自氢;-OR6;-NR7aR7b;-C(=O)NR7aR7b;任选地被选自以下的取代基取代的C1-4烷基:氟、-CN、-OR8、和-NR9aR9b;和含有至少一个氮、氧或硫原子的C-连接的4元至7元非芳香族杂环基;其中
R6、R7a、R7b、R8、R9a和R9b各自独立地选自氢;任选地被选自以下的取代基取代的C1-4烷基:氟、-CN和-C(=O)NR10aR10b;和被选自以下的取代基取代的C2-4烷基:-OR11和-NR10aR10b;其中
R10a、R10b和R11各自独立地选自氢;C1-4烷基;和含有至少一个氮、氧或硫原子的C-连接的4元至7元非芳香族杂环基;并且
R3选自Ar;Het1;Het2;和7元至10元饱和螺碳二环系统;或
(b) L2选自 CR4cR4d和-CHR4cCHR5a-;其中R4c、R4d和R5a各自独立地选自氢和C1-4烷基;并且
R3选自和;其中
R12a、R12b,和R12c各自独立地选自任选地被-OH或-NH2取代基取代的C1-6烷基;和-OC1-6烷基;或
(c) --L2-R3是任选地被一个、两个或三个氟或-OH取代基取代的C1-6烷基;或
(d) --L2-R3是,其中
R13选自氢;任选地被氟或-CN取代基取代的C1-4烷基;和被选自以下的取代基取代的C2-4烷基:-OR14和-NR15aR15b;其中
R14、R15a和R15b各自独立地选自氢;任选地被选自以下的取代基取代的C1-4烷基:氟、-CN和-C(=O)NR16aR16b;被选自以下的取代基取代的C2-4烷基:-OR17和NR16aR16b;以及含有至少一个氮、氧或硫原子的C-连接的4元至7元非芳香族杂环基;其中
R16a、R16b和R17各自独立地选自氢和C1-4烷基;并且
R13a选自氢、氟和C1-4烷基;
R13b选自氢、氟、-OC1-4烷基,和任选地被1、2或3个氟取代基取代的C1-4烷基;或
R13a和R13b与相同的碳原子结合并且一起形成C3-5环烷基或含有氧原子的C-连接的4元至6元杂环基;或
(e) --L2-R3是或;并且其中
Ar是苯基或萘基,其各自可以任选地被一个、两个或三个取代基取代,每个取代基独立地选自卤素,-CN,-OR18,-NR19aR19b,以及任选地被选自以下的取代基取代的C1-4烷基:氟、-CN、-OR20、-NR21aR21b、和-C(=O)NR21aR21b;
Het1是选自以下的单环杂芳基:吡啶基、4-、5-或6-嘧啶基、吡嗪基、哒嗪基、呋喃基、噻吩基、吡咯基、吡唑基、咪唑基、4-或5-噻唑基、异噻唑基,和异噁唑基;或选自以下的二环杂芳基:咪唑并噻唑基、咪唑并咪唑基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、苯并咪唑基、苯并噁唑基、异苯并噁唑基、苯并异噁唑基、苯并噻唑基、苯并异噻唑基、异苯并呋喃基、吲哚基、异吲哚基、吲嗪基、二氢吲哚基、异二氢吲哚基、吲唑基、吡唑并吡啶基、吡唑并嘧啶基、咪唑并吡啶基、咪唑并吡嗪基、咪唑并哒嗪基;其各自可以任选地被一个、两个,或三个取代基取代,每个取代基各自独立地选自卤素,-CN、-OR18、-NR19aR19b、C3-6环烷基,和任选地被选自以下的取代基取代的C1-4烷基:氟、-CN、-OR20、-NR21aR21b、和-C(=O)NR21aR21b;并且
Het2是任选地被一个、两个,或三个取代基取代的非芳香族杂环基,每个取代基各自独立地选自卤素、-CN、-OR18、-NR19aR19b、-C(=O)C1-6烷基、-C(=O)-O-C1-6烷基、-C(=O)-C3-6环烷基、-C(=O)-Ar2、-C(=O)-Het3、-C(=O)-Het4、和任选地被选自以下的取代基取代的C1-4烷基:氟、-CN、-OR20、-NR21aR21b、和-C(=O)NR21aR21b;
Ar2是苯基;
Het3是吡啶基;
Het4是氧杂环丁烷基、四氢呋喃基,或四氢吡喃基;
其中
R18、R19a、R19b、R20、R21a、和R21b各自独立地选自氢;任选地被选自以下的取代基取代的C1-4烷基:氟和-C(=O)NR22aR22b;和被选自以下的取代基取代的C2-4烷基:-OR23和-NR22aR22b;其中
R22a、R22b和R23各自独立地选自氢;C1-4烷基;以及含有至少一个氮、氧或硫原子的C-连接的4元至7元非芳香族杂环基;
或其药学上可接受的盐或溶剂化物。
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