[发明专利]用于测量高纵横比结构的红外光谱反射计

权利要求书

1.一种计量系统，其包括：

红外光谱反射计，其包含：

一或多个照射源，其经配置以产生包含横跨从750纳米到2,600纳米的范围的波长的一定量的宽带照射光；

照射光学器件子系统，其经配置而以小于40度的一或多个入射角、一或多个方位角或其组合将所述一定量的照射光从所述照射源引导到受测量的样品的表面上的测量光点；

收集光学器件子系统，其经配置以从所述样品的所述表面上的所述测量光点收集一定量的所收集光；

至少一个检测器，其具有对入射光敏感的平面二维表面，其中所述至少一个检测器包含各自具有不同光敏性的两个或多于两个不同表面区，其中所述两个或多于两个不同表面区跨越所述至少一个检测器的所述表面与波长分散方向对准，所述至少一个检测器经配置以检测所述入射光且产生指示所述所检测到的入射光的输出；及

计算系统，其经配置以基于对所述至少一个检测器的所述输出的分析而产生受测量的所述样品的所关注参数的所估计值。

2.根据权利要求1所述的计量系统，其中所述照射光学器件子系统以在5度与40度的范围内的多个入射角将所述一定量的照射光引导到所述测量光点。

3.根据权利要求1所述的计量系统，其进一步包括：

紫外到近红外光谱反射计，其经配置以用包含横跨从190纳米到900纳米的范围的波长的照射光测量所述样品。

4.根据权利要求1所述的计量系统，其进一步包括：

真空紫外到紫外光谱反射计，其经配置以用包含横跨从150纳米到300纳米的范围的波长的照射光测量所述样品。

5.根据权利要求2所述的计量系统，其进一步包括：

红外光谱椭圆计，其经配置以用包含横跨从750纳米到2600纳米的范围的波长的照射光测量所述样品。

6.根据权利要求5所述的计量系统，其进一步包括：

紫外到近红外光谱椭圆计，其经配置以用包含横跨从190纳米到900纳米的范围的波长的照射光测量所述样品。

7.根据权利要求5所述的计量系统，其进一步包括：

真空紫外到紫外光谱椭圆计，其经配置以用包含横跨从150纳米到300纳米的范围的波长的照射光测量所述样品。

8.根据权利要求5所述的计量系统，其中所述光谱椭圆计经配置而以大于40度的多个入射角照射所述样品。

9.根据权利要求5所述的计量系统，其中经组合的所述红外光谱反射计及所述光谱椭圆计对在从150纳米到4,500纳米的波长范围内的光谱区域敏感。

10.根据权利要求5所述的计量系统，其中所述红外光谱反射计在所述样品上的所述测量光点与所述光谱椭圆计在所述样品上的所述测量光点位于同一位置。

11.根据权利要求1所述的计量系统，其中各自具有不同光敏性的所述两个或多于两个不同表面区包含InGaAs材料。

12.根据权利要求1所述的计量系统，其进一步包括：

中心遮挡部，其安置于所述收集光学器件子系统的收集光瞳处或附近，经配置以遮挡来自所述样品的衬底的背部表面的反射。

13.根据权利要求1所述的计量系统，其进一步包括：

中心遮挡部，其安置于所述照射光学器件子系统的照射光瞳处或附近，经配置以遮挡来自所述样品的衬底的背部表面的反射。

14.根据权利要求1所述的计量系统，其中所述一或多个入射角不包含法向入射角。

15.根据权利要求1所述的计量系统，其中所述红外光谱反射计的物镜为史瓦西物镜。