[发明专利]具有具备杀菌作用的表面的合成高分子膜及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201780056684.9 申请日: 2017-09-05
公开(公告)号: CN109790305A 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 中原隆裕;山田美穗;箕浦洁 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;B29C59/04;B32B3/30;B32B27/30;C08F290/06;B29K33/00
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 汪飞亚;习冬梅
地址: 日本国大*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高分子膜 合成 氮元素 凸部 反应性稀释剂 环氧乙烷单元 树脂组成物 法线方向 杀菌效果 杀菌作用 摩尔数 溶剂 伯胺 二维 仲胺 制造 观看
【说明书】:

合成高分子膜(34A)、(34B)具备具有多个凸部(34Ap)、(34Bp)的表面,且从合成高分子膜的法线方向观看时,多个凸部的二维大小处于超过20nm且小于500nm的范围内,表面具有杀菌效果,形成伯胺的氮元素及形成仲胺的氮元素的合计浓度为0.29at%以上,1g中所含的环氧乙烷单元的摩尔数超过0.0020。合成高分子膜可使用含有反应性稀释剂且不含溶剂的树脂组成物而制造。

技术领域

本发明涉及一种具有具备杀菌作用的表面的合成高分子膜、使用合成高分子膜的表面的杀菌方法、用于制造合成高分子膜的模具及模具的制造方法。此处所谓“模具”,包含用于各种加工方法(冲压或注塑)的模具,也有时称为压模。而且,也可用于印刷(包含纳米印刷)。

背景技术

最近,已发表了黑硅、蝉或蜻蜓的翅膀所具有的纳米表面结构具有杀菌作用(非专利文献1)。认为黑硅、蝉或蜻蜓的翅膀所具有的纳米柱的物理结构表现出杀菌作用。

根据非专利文献1,对革兰氏阴性菌的杀菌作用是黑硅最强,蜻蜓的翅膀、蝉的翅膀依次变弱。黑硅具有高度为500nm的纳米柱,蝉或蜻蜓的翅膀具有高度为240nm的纳米柱。而且,关于这些表面对水的静态接触角(以下有时简称为“接触角”),黑硅为80°,相对于此,蜻蜓的翅膀为153°,蝉的翅膀为159°。而且,想到黑硅主要由硅形成,蝉或蜻蜓的翅膀是由甲壳素形成。根据非专利文献1,黑硅的表面组成基本上为氧化硅,蝉及蜻蜓的翅膀的表面组成为脂质。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利第4265729号公报

专利文献2:日本专利特开2009-166502号公报

专利文献3:国际公开第2011/125486号

专利文献4:国际公开第2013/183576号

非专利文献

非专利文献1:伊万诺娃(Ivanova)E.P.等人,《黑硅的杀菌活性(Bactericidalactivity of black silicon)》,Nat.Commun.4:2838doi:10.1038/ncomms3838(2013).

发明内容

本发明所要解决的技术问题

根据非专利文献1所记载的结果,利用纳米柱杀死细菌的机制不明。进而,不明确黑硅较蜻蜓或蝉的翅膀具有更强杀菌作用的原因是在于纳米柱的高度或形状的差异,还是在于表面自由能(可利用接触角进行评价)的差异,还是在于构成纳米柱的物质,还是在于表面的化学性质。

而且,即便利用黑硅的杀菌作用,但黑硅也有缺乏量产性,而且又硬又脆因而形状加工性低的问题。

解决问题的方案

本发明是为了解决所述课题而成,其主要目的在于提供一种具有具备杀菌作用的表面的合成高分子膜及其制造方法。

本发明的某实施形态的合成高分子膜具备具有多个凸部的表面,且从所述合成高分子膜的法线方向观看时,所述多个凸部的二维大小处于超过20nm且小于500nm的范围内,所述表面具有杀菌效果,形成伯胺的氮元素及形成仲胺的氮元素的合计浓度为0.29at%以上,1g中所含的环氧乙烷单元的摩尔数超过0.0020。

某实施形态中,1g中所含的环氧乙烷单元的摩尔数为0.0070以上。

某实施形态中,形成伯胺的氮元素及形成仲胺的氮元素的合计浓度为0.33at%以上。

某实施形态中,所述合成高分子膜包含丙烯酸氨基甲酸酯结构。

某实施形态中,所述丙烯酸氨基甲酸酯结构包含环氧乙烷单元的重复结构。将所述重复结构的重复数设为N,N为2以上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社,未经夏普株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780056684.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top