[发明专利]用于调节多种流体的方法和设备

说明书

在一种用于调节至少两种流体的方法中，流体供应流Q被分成n个部分，该n个部分的总和等于Q，该n个部分中的每一个部分都被送到n个处理单元(P1，P2)中的一个，该n个处理单元中的每一个处理单元都产生至少一个经处理的流(11，12)，通过控制装置对这些处理单元中的第一处理单元的至少一个经处理的流(11)进行调节，以便在标称操作下使其流量保持在值Q1恒定，通过控制装置对这些处理单元中的第二处理单元的至少一个经处理的流(12)进行调节，以便在标称操作下使其压力保持恒定，在供应流量Q减小的情况下，在供应减少的操作下，如果并且优选地仅如果步骤v)的在该第二处理单元中处理的流(12)的流量下降并且因此达到第一最小流量阈值，则对在该第一处理单元中的经处理的流(11，13)进行调节，使得在标称操作下具有值Q1的经处理的流减小到低于Q1的值。

技术领域

本发明涉及一种用于调节多种流体的方法和设备。

背景技术

来自不同来源的并行的多种流体的调节在以下情况下需要调整：

需要维持物质在流量方面的平衡。

某些流体优先于其他流体，特别是在瞬态阶段期间，例如，如果其中一种流体必须绝对保持在一定的流量范围内。

有时需要将流体分成多个部分，以便使用不同的处理方法来分别处理这些部分。然后，由一个或多个客户来使用这些处理方法的一种或多种产品。如果主要来源P供应不同的处理单元P1和P2的方法存在流量波动，则如下进行调节，如图1所展示的：

流Q被分成n个(在这种情况下为两个)部分，这些部分的总和等于Q。部分1、2中的每一个部分通过阀V1、V2被送到处理单元P1、P2。来自单元P1的流体11将通过阀V11在流量方面进行调节，并且以这种方式，所抽取的流将处于固定的流量，并且来自单元P2的流体12将通过阀V12在压力方面进行控制，目的在于使物质的平衡保持稳定。(图1)。处理单元P1可以生产除11之外的产品。处理单元P2可以生产除12之外的产品。借助于控制器FIC，阀V11调节产品21的流量以便产生恒定的流量Q1，这仅考虑来自方法P1的流11的流量。产品21的压力可以变化。利用控制器PIC，阀V12调节产品12的压力而使得该压力是恒定的，产品22的流量Q2可能变化。调节仅考虑来自方法P2的流12的流量。

处理单元可以操作相同的处理系统，例如吸附、蒸馏、吸收等，或者每个处理单元可以根据不同的处理系统进行操作。

发明内容

本发明的一个方面提供了一种用于调节至少两种流体的方法，其中：

i)流体供应流Q被分成n个部分，该n个部分的总和等于Q。

ii)该n个部分中的每一个部分被送到n个处理单元中的一个处理单元。

iii)该n个处理单元中的每一个处理单元都产生至少一个经处理的流。

iv)通过控制装置对来自这些处理单元中的第一处理单元的至少一个经处理的流进行调节，以便在标称操作下使其流量保持在值Q1恒定。

v)通过控制装置对来自这些处理单元中的第二处理单元的至少一个经处理的流进行调节，以便在标称操作下使其压力保持恒定。

vi)在供应流量Q减小的情况下，在供应减少的操作下，如果并且优选地仅如果步骤v)的在该第二处理单元中处理的流的流量下降并且因此达到第一最小流量阈值，则对在该第一处理单元中处理的流进行调节，使得在标称操作下具有流量Q1的经处理的流减小到低于Q1的流量。

根据其他可选方面：

-n等于2。

-n至少等于3。

-通过控制装置进行调节以便在标称操作下使其流量保持在值Q1恒定的来自这些处理单元中的第一处理单元的经处理的流未被调节以在标称操作下使其压力保持恒定。