[发明专利]用于光学滤波的系统及方法

权利要求书

1.一种光学器件，其特征在于，所述光学器件包括一第一光栅及一第二光栅，所述第一光栅及所述第二光栅形成在或附接到一介电层上并且配置成用以同时将与其相互作用的一光场耦合成为两个不同的法诺-费什巴赫谐振。

2.如权利要求1所述的光学器件，其特征在于：所述第一光栅及所述第二光栅是形成在所述介电基板的同一侧的介电光栅。

3.如权利要求1所述的光学器件，其特征在于：所述第一光栅及所述第二光栅形成在附接到所述介电基板的一金属层的同一侧。

4.如权利要求1所述的光学器件，其特征在于：所述第一光栅及所述第二光栅形成在一金属层的多个相对侧，并且其中所述介电层设置在所述第一光栅上。

5.如权利要求4所述的光学器件，其特征在于：所述第一光栅及所述第二光栅之间，垂直于所述金属层的一垂直间隔为5nm至20nm，例如约10nm。

6.如权利要求3至5任一项所述的光学器件，其特征在于：所述金属层包括一材料，所述材料选自金、银、铂、铝、铜、铑、铱、钨及钼所组成的组。

7.如权利要求1至5任一项所述的光学器件，其特征在于：所述第一光栅及所述第二光栅至少在一个光栅特征上不同，所述至少一个光栅特征选自一光栅周期、一光栅深度及一光栅占空比所组成的组。

8.如权利要求1至7任一项所述的光学器件，其特征在于：所述第一光栅及所述第二光栅中的每一个具有一凹槽，所述凹槽的深度为10nm至100nm，更优选为30nm至60nm。

9.如权利要求4至8任一项所述的光学器件，还包括一附加介电层设置在所述第二光栅上，其中所述第一介电层及第二介电层由不同材料所制成。

10.如权利要求1至5任一项所述的光学器件，其特征在于：至少所述第一光栅是一啁啾准周期光栅。

11.如权利要求6至9任一项所述的光学器件，其特征在于：至少所述第一光栅是一啁啾准周期光栅。

12.一种光学器件，其特征在于，所述光学器件包括一准周期光栅，所述准周期光栅形成在或附接到一介电层上并且配置成用以同时将与其相互作用的一光场耦合成为两个不同的法诺-费什巴赫谐振。

13.如权利要求12所述的光学器件，其特征在于：所述光栅是形成在所述介电层上的一介电光栅。

14.如权利要求12所述的光学器件，其特征在于：所述光栅是形成在一金属层上的一金属光栅，并且其中所述介电层设置在所述光栅上。

15.如权利要求14所述的光学器件，其特征在于：所述金属层包括一材料，所述材料选自金、银、铂、铝、铜、铑、铱、钨及钼所组成的组。

16.如权利要求12至15任一项所述的光学器件，其特征在于：所述光栅是一啁啾准周期光栅。

17.如权利要求1至15任一项所述的光学器件，其特征在于：所述介电层包括一介电材料，所述介电材料选自蓝宝石、石英、硅、碳化硅、氮化镓、磷化镓、二硼化锆、砷化镓、二氧化硅及玻璃所组成的组。

18.如权利要求1至15任一项所述的光学器件，其特征在于：所述介电层的一厚度为10μm至1mm。

19.如权利要求1至18任一项所述的光学器件，被设计用于一预定波长，并且其中所述介电层的一厚度是所述波长的至少两倍。