[发明专利]用低辐射率涂层涂覆的基材在审
| 申请号： | 201780059166.2 | 申请日： | 2017-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN109790066A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | D.吉马尔;J.斯科尔斯基 | 申请（专利权）人： | 法国圣戈班玻璃厂 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 黄念 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 介电层 润湿层 氧化物 基材 涂覆 低辐射率 激光退火 氧阻挡层 银层 | ||
1.一种用于获得材料的方法，所述材料包含在至少一个面上涂覆有薄层堆叠体的基材，所述方法包括以下步骤：
-在所述基材的至少一个面上沉积薄层堆叠体，该薄层堆叠体包含第一介电层、润湿层、银层和第二介电层，
-使用至少一种在100-2000nm之间的至少一个波长发射的激光辐射对所述至少一个涂覆面进行热处理；
其特征在于，所述第一介电层是基于亚化学计量氧化物的介电层，并且氧阻挡层被设置于第一介电层和润湿层之间。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，进行热处理使得堆叠体的薄层电阻降低至少5％。
3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，基材是玻璃片材。
4.如权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，润湿层是基于氧化锌的层。
5.如权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，氧阻挡层被直接设置于第一介电层上方。
6.如权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，第一和第二介电层中的每一个是基于氧化物的介电层。
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，第一氧阻挡层被设置于第一介电层和润湿层之间，并且第二氧阻挡层被设置于第二介电层和润湿层之间。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，第二氧阻挡层被设置于第二介电层的直接下方。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其特征在于，所述氧阻挡层选自基于氮化硅，氮氧化硅，碳化硅，碳氧化硅，氮化铝或碳化钛的层。
10.如权利要求1至9中任一项所述的方法，其特征在于，氧阻挡层具有为1至30nm的厚度。
11.如权利要求1至10中任一项所述的方法，其特征在于，基于亚化学计量氧化物的第一介电层是基于钛，硅，铌或镁的氧化物的层。
12.如权利要求1-11中任一项所述的方法，其特征在于，基于亚化学计量氧化物的第一介电层是亚化学计量的氧化钛TiOx层。
13.如权利要求12所述的方法，其特征在于x小于或等于1.8。
14.一种材料，其包含涂覆有薄层堆叠体的基材，所述薄层堆叠体依次包含第一介电层、润湿层、银层和第二介电层，其特征在于，所述第一介电层是基于亚化学计量氧化物的介电层和氧阻挡层被设置于基于亚化学计量氧化物的介电层和润湿层之间。
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