[发明专利]成像元件及摄像装置有效
申请号: | 201780059212.9 | 申请日: | 2017-08-10 |
公开(公告)号: | CN109792497B | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 小林诚 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | H04N5/369 | 分类号: | H04N5/369;G02B7/34;G03B13/36;H01L27/146;H04N5/374 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 元件 摄像 装置 | ||
1.一种成像元件,其通过摄像光学系统拍摄被摄体,
该成像元件在形成于半导体基板内的像素中包含多个包含接收通过所述摄像光学系统的光瞳区域的沿一方向排列的不同部分的一对光束中的其中一个光束并积蓄与受光量相应的电荷的光电转换部的第1像素、和包含接收所述一对光束中的另一个光束并积蓄与受光量相应的电荷的光电转换部的第2像素的对,
构成所述对的所述第1像素及所述第2像素分别包含:
电荷保持部,该电荷保持部保持从所述像素内的所述光电转换部转移的电荷,并通过读出电路读出与所述电荷相应的信号,
用于将积蓄在所述光电转换部的电荷转移至所述电荷保持部的形成于所述半导体基板内的转移通道及形成于所述转移通道上方的转移电极,以及
对除了所述第1像素及所述第2像素的光电转换部的受光区域以外的区域、所述电荷保持部及所述转移电极进行遮光的遮光膜,
所述第1像素的光电转换部的受光区域由光电转换部中与遮光膜的开口重叠的部分构成,该开口的中心相对于光电转换部的中心向一方向的右方向偏心,所述第2像素的光电转换部的受光区域由光电转换部中与遮光膜的开口重叠的部分构成,该开口的中心相对于光电转换部的中心向一方向的左方向偏心,
在从与所述半导体基板垂直的方向观察的状态下,所述第1像素及第2像素的各个中包含的所述光电转换部及所述电荷保持部沿与所述一方向正交的方向排列,
在从与所述半导体基板垂直的方向观察的状态下,所述转移通道形成于所述第1像素及所述第2像素中除了沿与所述一方向正交的方向移动所述光电转换部的所述受光区域时的轨迹所示的区域以外的区域。
2.根据权利要求1所述的成像元件,其中,
所述第1像素与所述第2像素分别在所述光电转换部的上方具有用于将光聚光于所述光电转换部的受光区域的透镜,
所述透镜的所述一方向的宽度大于与所述一方向正交的方向的宽度。
3.一种摄像装置,其具备权利要求1或2所述的成像元件。
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