[发明专利]移动体装置、移动方法、曝光装置、曝光方法、平板显示器的制造方法、以及器件制造方法有效
申请号: | 201780059376.1 | 申请日: | 2017-09-29 |
公开(公告)号: | CN109819673B | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
发明(设计)人: | 青木保夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01B11/00;H01L21/68 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王涛;任默闻 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 移动 装置 方法 曝光 平板 显示器 制造 以及 器件 | ||
本发明的移动体装置,具备可保持基板(P)往X轴及Y轴方向移动的基板保持具(32)、可往Y轴方向移动的Y粗动载台(24)、将基板保持具(32)的位置信息通过设于基板保持具(32)的读头(74x、74y)与设于Y粗动载台(24)的标尺(72)加以取得的第1测量系统、将Y粗动载台(24)的位置信息通过设于Y粗动载台(24)的读头(80x、80y)与标尺(78)加以取得的第2测量系统、以及根据以第1及第2测量系统取得的位置信息控制基板保持具(32)的位置的控制系统,第1测量系统一边使读头(74x、74y)相对标尺(72)往X轴方向移动一边照射测量光束,第2测量系统则一边使读头(80x、80y)相对标尺(78)往Y轴方向移动一边照射测量光束。
技术领域
本发明关于移动体装置、移动方法、曝光装置、曝光方法、平板显示器的制造方法、以及器件制造方法。
背景技术
以往,于制造液晶显示器件、半导体器件(积体电路等)等电子器件(微器件)的光刻工艺,使用通过投影光学系统(透镜)以照明光(能量束)使感光性的玻璃板或晶片(以下,统称为“基板”)曝光,据以将光掩膜(photomask)或标线片(以下,统称为“光掩膜”)所具有的既定图案转印至该基板的曝光装置。
作为此种曝光装置,有一种具备使用基板载台装置所具有的长条镜(bar mirror)来求出曝光对象基板于水平面内的位置信息的光干涉仪系统者广为人知(例如,参照专利文献1)。
此处,使用光干涉仪系统求出基板的位置信息的情形时,因激光光至长条镜的光路长较长,而无法忽视所谓空气波动的影响。
先行技术文献
专利文献
[专利文献1]美国专利申请公开第2010/0266961号说明书
发明内容
解决课题的手段
本发明第1态样提供一种移动体装置,其具备:第1移动体,其保持物体、能往彼此交叉的第1方向与第2方向移动;第1测量系统,其于该第1方向多个格子区域彼此分离配置且包含该第1及第2方向的测量成分的第1格子构件、与一边相对该第1格子构件往该第1方向移动一边照射测量光束的多个第1读头中的一方设于该第1移动体,通过该多个第1读头中、该测量光束照射于该多个格子区域中的至少1个的至少3个第1读头,测量于该第1方向的该第1移动体的位置信息;第2移动体,设有该第1格子构件与该多个第1读头中的另一方,能往该第2方向移动;第2测量系统,其包含该第1及第2方向的测量成分的第2格子构件、与一边相对该第2格子构件往该第2方向移动一边照射测量光束的第2读头中的一方设于该第2移动体,第2格子构件与该第2读头中的另一方被设置成与该第2移动体对向,测量于该第2方向的该第2移动体的位置信息;以及控制系统,其根据以该第1及第2测量系统测量的该位置信息、与用以补偿因该第1格子构件、该多个第1读头及该第1移动体的移动中的至少1个而产生的该第1测量系统的测量误差的修正信息,进行该第1移动体于包含该第1及第2方向的既定平面内的3自由度方向的移动控制。
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