[发明专利]感光性树脂组合物、由其形成的硬化膜、及具有所述硬化膜的电子装置

说明书

本发明提供一种感光性树脂组合物、使所述感光性树脂组合物硬化而制造的硬化膜、及包含所述硬化膜的电子装置，所述感光性树脂组合物包含(A)聚硅氧烷聚合物、及(B)溶媒，其中所述(A)聚硅氧烷聚合物是使下述化学式1所表示的至少一种硅烷化合物进行水解及缩合反应而形成，在所述感光性树脂组合物的预烘烤后，膜不溶于2.38重量％四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液中，且在5重量％TMAH水溶液中的溶解速度为/秒以下：[化学式1](R¹)_aSiX¹_4‑a，所述化学式1中，R¹、X¹、及a与说明书中的定义相同。

技术领域

本揭示涉及一种感光性树脂组合物、由其形成的硬化膜、及包含所述硬化膜的电子装置。

背景技术

在液晶显示器或有机电致发光(electroluminescence，EL)显示器等中，为了更加精密地实现高分辨率，必须提高显示装置的开口率，为此，有如下方法：通过在薄膜晶体管(thin film transistor，TFT)基板的上部设置透明的平坦化膜作为保护膜，可使数据线(data line)与像素电极重叠而实现高开口率。

作为用以形成此种TFT基板用有机绝缘膜的材料，必须为具有高耐热性、高透明性、高温耐龟裂性、低介电常数性、耐化学性等的材料，且为了确保TFT基板电极与氧化铟锡(indium tin oxide，ITO)电极的导通，需要形成数μm～50μm左右的孔图案(holepattern)。

以前，主要使用的是使醌二叠氮化合物与酚系树脂组合而成的材料、或者使醌二叠氮化合物与丙烯酸系树脂组合而成的光感性树脂组合物。但，所述材料在200℃以上的高温下材料特性虽然不会急剧劣化，但在230℃以上会慢慢开始分解，从而有产生膜厚降低或龟裂现象的问题，或者因对基板进行高温处理而透明膜被着色、透过率降低的问题。

另外，最近在液晶显示器等中采用的是触摸屏，但为了提高触摸屏的透明性或功能性，正在以作为透明电极构件的ITO的高透明性与高导电性为目的而尝试进行更高温度下的热处理或制膜。伴随于此，也对透明电极构件的保护膜或绝缘膜要求对于高温处理的耐热性。但，丙烯酸树脂的耐热性或耐药品性并不充分，有因基板的高温处理或透明电极等的高温成膜、或者各种蚀刻药液处理而硬化膜被着色、透明性降低，或者因高温成膜中的脱气而电极的导电率降低的问题。因此，无法用于如下工艺：在该透明膜材料之上，使用等离子体增强化学气相沉积(plasma enhanced chemical vapor deposition，PECVD)等的装置而在高温下进行膜形成。

而且，在有机EL元件中，由所述材料所产生的龟裂或分解物也会对有机EL元件的发光效率或寿命带来不良影响，因此不能说是最适合于使用的材料。另外，赋予了耐热性的丙烯酸材料在300℃以上仍可能产生龟裂现象，如果并非所述情况，则一般介电常数变高。因此，由于为高介电常数，绝缘膜所致的寄生电容变大，因此消耗电力变大，或者因液晶元件驱动信号的延迟等而在画质的品质上引起问题。另外，即便是介电常数大的绝缘材料，虽然可通过例如增大膜厚来减小电容，但一般难以形成均匀的厚膜，材料使用量也变多而不优选。

另一方面，作为高耐热、高透明性的材料，已知有倍半硅氧烷。尤其提出了如下的感光性组合物等：其包含对特定的倍半硅氧烷赋予丙烯酸基而成的倍半硅氧烷化合物、使包含不饱和羧酸及环氧基的不饱和化合物及烯烃系不饱和化合物共聚合而成的丙烯酸系共聚物、以及醌二叠氮化合物。但，所述化合物仍有如下的耐热性的问题：有机化合物的含量高，在250℃以上的高温硬化后一边发生分解一边被着色为黄色而透明度下降，且有以下问题：在显影后残膜率下降而不能成为平坦的膜，或者对于N-甲基-2-吡咯烷酮(N-methyl-2-pyrroldine，NMP)、四甲基氢氧化铵(tetramethylammonium hydroxide，TMAH)溶液、10％NaOH等溶媒的耐化学性也降低。