[发明专利]光刻设备

权利要求书

1.一种光刻设备，包括投影系统，所述投影系统被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域，所述光刻设备进一步包括用于冷却所述衬底的冷却设备，其中所述冷却设备包括：

冷却元件，位于所述衬底台上方并且邻近于所述曝光区域，所述冷却元件被配置为从被保持在所述衬底台上的衬底去除热量。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述冷却元件被配置为冷却位于距离将所述曝光区域平分的线3cm或更小的范围内的区域。

3.根据权利要求1或2所述的光刻设备，其中所述冷却元件被配置为冷却位于距离所述曝光区域的边缘2cm或更小的范围内的区域。

4.根据前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述冷却元件在与所述光刻设备的扫描方向基本上相对应的方向上与所述曝光区域分离。

5.根据权利要求4所述的光刻设备，其中所述冷却元件是成对的冷却元件中的设置在所述曝光区域的任一侧的冷却元件。

6.根据前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述冷却元件包括本体、设置在所述本体的最下面中的开放腔体，并且进一步包括被配置为向所述腔体传送气体的气体传送导管。

7.根据权利要求6所述的光刻设备，其中所述腔体被配置为与所述衬底的上表面一起形成容纳由所述气体传送导管传送的气体的容积。

8.根据权利要求6或7中任一项所述的光刻设备，其中所述腔体具有在使用中距离所述衬底的上表面小于1mm的顶部。

9.根据权利要求8所述的光刻设备，其中传送到所述腔体的气体的压力和所述腔体顶部与所述衬底表面之间的分离的组合使得所述衬底的适应系数对于从所述衬底到所述冷却元件本体的热传递没有显著影响。

10.根据权利要求1至5中任一项所述的光刻设备，其中所述冷却元件包括本体，所述本体包含连接到气体传送导管的腔室，所述腔室的底板被设置有开口。

11.根据权利要求10所述的光刻设备，其中所述腔室的所述底板中的所述开口包括成排的孔或孔阵列。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的光刻设备，其中所述冷却元件包括第一部分和第二部分，所述第一部分被布置为被冷却到被选择以从所述衬底去除热量的第一温度，所述第二部分被布置为与所述第一部分相比以更高的温度进行操作。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的光刻设备，进一步包括位于所述冷却元件的第一部分与所述衬底之间的热屏蔽件，以便减少由所述第一部分从所述衬底去除的热量。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的光刻设备，进一步包括：

气体传送导管，用于向所述冷却元件传送气体以用于从所述冷却元件传送到所述衬底；

阀，用于选择性地限制所述气体传送导管内的气体流动，所述阀包括壳体部分和滑动构件，所述阀在连接到所述气体传送导管的流体入口与流体出口之间限定导管；

其中所述滑动构件在所述导管不受限制的第一位置与所述导管部分地受限的第二位置之间可滑动；以及

其中所述滑动构件不与所述壳体物理接触。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的光刻设备，其中所述冷却元件的冷却表面包括非平坦的三维结构。

16.根据权利要求1至15中任一项所述的光刻设备，其中冷却本体是可弯曲的，以便控制由存在于所述冷却元件与所述衬底之间的气体提供的冷却。