[发明专利]硫代(二)硅烷

权利要求书

1.一种式(I)的硫代二硅烷在化学气相沉积工艺中的用途，其用作化学气相沉积工艺中的前体：

(R^1aR^1bR^1cCS)_s(R²₂N)_n(Si-Si)X_xH_h (I)；

其中：

下标s为1至6的整数；

下标n为0至5的整数；

下标x为0至5的整数；

下标h为0至5的整数；

前提条件是，总和s+n+x+h＝6；

当存在于式(I)中时、即当下标h为1至5时，每个H独立地键合到式(I)中的硅原子中的相同硅原子或不同硅原子；

当存在于式(I)中时、即当下标x为1至5时，每个X为一价卤素原子F、Cl、I或Br，并且独立地键合到式(I)中的硅原子中的相同硅原子或不同硅原子；

其中R^1a、R^1b和R^1c由限制条件(a)、(b)或(c)定义：

(a)至少一个R^1a独立地为(C₁-C₂₀)烷基或苯基，并且任何其余的R^1a、R^1b和R^1c中的每个独立地为H或(C₁-C₂₀)烃基；或者

(b)至少一个R^1aR^1bR^1cC基团为未取代或被取代基SUB取代的(C₆-C₂₀)芳基，并且当下标s为2时，剩余的R^1aR^1bR^1cC基团是被取代基SUB取代的(C₆-C₂₀)芳基，或者剩余的R^1aR^1bR^1cC基团的R^1a、R^1b和R^1c独立地是(C₁-C₂₀)烷基；或者

(c)在相同的或不同的R^1aR^1bR^1cC基团中，将R^1a、R^1b和R^1c统称为R¹基团并将其中的任意两者键合在一起以形成二价基团，-R¹¹-，其中-R¹¹-为(C₃-C₂₀)亚烷基，并且任何其余的R^1a、R^1b和R^1c中的每个独立地为H或(C₁-C₂₀)烷基；

每个R²基团独立地为H或(C₁-C₂₀)羟基；或者任意两个R²基团可以键合在一起以形成二价基团，-R²²-，其中-R²²-为(C₂-C₂₀)亚烃基，并且任何其余的R²基团中的每个独立地为H或(C₁-C₂₀)羟基；

每个烃基和亚烃基独立地为未取代的或者被1至5个取代基SUB取代；并且

每个SUB独立地为未取代的(C₁-C₆)烷基、未取代的(C₃-C₆)环烷基、未取代的(C₂-C₆)烯基、未取代的(C₂-C₆)炔基、未取代的(C₆-C₇)芳基、氟、氯或溴。