[发明专利]具有吸收电磁辐射并将热辐射发射到炉腔中的介电涂布玻璃衬底的炉

权利要求书

1.一种炉，包括：

具有门和多个壁的封闭腔，其中至少一个壁包括玻璃或玻璃-陶瓷衬底；

电磁辐射源；以及

涂覆到所述衬底的介电涂层组合物，

其中所述介电涂层组合物通过共用氧原子而化学键合到所述衬底，

其中所述介电涂层组合物吸收电磁辐射，由此提高所述衬底和所述介电涂层组合物的温度，并且

其中所述介电涂层组合物将具有宽波长分布的热辐射发射到所述腔中，

其中所述介电涂层组合物包括金属氧化物、陶瓷氧化物或其组合。

2.根据权利要求1所述的炉，其中存在所述金属氧化物，并且所述金属氧化物掺杂有卤素、后过渡金属或其组合。

3.根据权利要求1或2所述的炉，其中存在所述金属氧化物，并且所述金属氧化物包括氧化锡、氧化钛、氧化硅、氧化铈、氧化锆或其任意组合。

4.根据权利要求1或2所述的炉，其中存在所述陶瓷氧化物，并且所述陶瓷氧化物包括锆VI、铈III或其组合。

5.根据权利要求1或2所述的炉，其中存在所述金属氧化物，并且所述金属氧化物掺杂有卤素，并且其中所述卤素包括氟、氯、碘或其任意组合。

6.根据权利要求2所述的炉，其中所述后过渡金属包括锡、铟、锗或其组合。

7.根据权利要求1或2所述的炉，其中所述介电涂层组合物包括掺杂氟的氧化锡和任选的钛源、二氧化硅源或其组合。

8.根据权利要求1或2所述的炉，其中所述介电涂层组合物包括第一涂层和第二涂层，其中所述第一涂层设置在所述玻璃或玻璃-陶瓷衬底上，并且所述第二涂层设置在上述第一涂层上，其中所述第一涂层包括掺杂氟的氧化锡和钛源、二氧化硅源或其组合，并且其中所述第二涂层包括掺杂氟的氧化锡。

9.根据权利要求8所述的炉，其中所述第二涂层不含钛源。

10.根据权利要求1或2所述的炉，其中所述电磁辐射是微波辐射。

11.根据权利要求1或2所述的炉，其中所述炉是微波炉。

12.根据权利要求1或2所述的炉，其中涂布的所述衬底的导电率为35至65 欧姆/平方。

13.根据权利要求1或2所述的炉，其中所述至少一个壁是腔的顶壁、腔的底壁、腔的左壁、腔的右壁或腔的后壁。

14.根据权利要求1或2所述的炉，其中所述介电涂层组合物不被施加至门。