[发明专利]蓝宝石薄膜涂布基材有效

专利信息
申请号: 201780061301.7 申请日: 2017-09-27
公开(公告)号: CN109790627B 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 谢国伟;林永锐;陈余伟 申请(专利权)人: 浸大科研发展有限公司
主分类号: C23C28/04 分类号: C23C28/04;G02B1/115;G02B1/14;C23C14/08
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 曹立莉
地址: 中国香港九龙九龙塘联福道三*** 国省代码: 香港;81
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摘要:
搜索关键词: 蓝宝石 薄膜 基材
【权利要求书】:

1.一种在一基材上包括一分层结构的抗反射涂层,其特征在于,所述分层结构包括:

一最顶抗反射材料层,包括在一或多个中间抗反射材料层的顶部的蓝宝石或Al2O3,所述一或多个中间抗反射材料层的匹配折射率高于所述最顶抗反射材料层的折射率;

所述一或多个中间抗反射材料层,其中,直接位在所述最顶抗反射材料层的下方的所述中间抗反射材料层是一第二抗反射材料层且其匹配折射率高于所述最顶抗反射材料层的折射率;及

一最底抗反射材料层,位在所述一或多个中间抗反射材料层的下方,其中,所述最底抗反射材料层沉积在所述基材的顶部;

其中,所述最顶抗反射材料层、所述一或多个中间抗反射材料层与所述最底抗反射材料层的折射率相对于彼此是交替地较高与较低,

其中,所述第二抗反射材料层在可见光区间的折射率为≥1.75,并且其中,所述第二抗反射材料层包括YAG、AlAs、ZnSiAs2、AgBr、TlBr、C、B4C、SiC、AgCl、TlCl、BGO、PGO、CsI、KI、LiI、NaI、RbI、CaMoO4、PbMoO4、SrMoO4、AlN、GaN、Si3N4、LiNbO3、Nb2O5、Sc2O3、ZnO、GaP、KTaO3与BaTiO3的其中之一或更多。

2.如权利要求1所述的抗反射涂层,其特征在于,所述第二抗反射材料层还包括TiO2

3.如权利要求1所述的抗反射涂层,其特征在于,所述第二抗反射材料层还包括ZrO2

4.如权利要求1所述的抗反射涂层,其特征在于,所述基材包括玻璃、蓝宝石、石英、熔硅石、塑料与PMMA的其中之一或更多。

5.如权利要求1所述的抗反射涂层,其特征在于,

沉积于所述基材的顶部的所述分层结构的所述最底抗反射材料层是Al2O3;以及

所述基材不是蓝宝石或Al2O3

6.如权利要求5所述的抗反射涂层,其特征在于,所述分层结构包括三层抗反射材料。

7.如权利要求6所述的抗反射涂层,其特征在于,所述第二抗反射材料层还包括TiO2

8.如权利要求1所述的抗反射涂层,其特征在于,

沉积于所述基材的顶部的所述最底抗反射材料层不是Al2O3;以及

所述基材是蓝宝石或Al2O3

9.如权利要求8所述的抗反射涂层,其特征在于,所述分层结构包括三层抗反射材料。

10.如权利要求9所述的抗反射涂层,其特征在于,所述第二抗反射材料层还包括TiO2

11.如权利要求9所述的抗反射涂层,其特征在于,沉积于所述基材的顶部的所述最底抗反射材料层包括MgF2或SiO2

12.如权利要求1所述的抗反射涂层,其特征在于,每一所述抗反射材料层的厚度至少有10nm。

13.如权利要求1所述的抗反射涂层,其特征在于,每一所述抗反射材料层的厚度不超过800nm。

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