[发明专利]抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法、高分子化合物及共聚物

权利要求书

1.一种抗蚀剂组合物，

其是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，

含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的树脂成分(A1)，

所述树脂成分(A1)具有以下述通式(a0－1)表示的结构单元(a0)，

【化1】

式中，R为氢原子、碳数1～5的烷基或碳数1～5的卤代烷基，Va⁰为可具有醚键的2价烃基，n_a0为0～2的整数，Ra⁰⁰为以通式(a0－r1－1)表示的酸解离性基团，Ra⁰¹为可具有取代基的烃基，Ra⁰²为可具有取代基的烃基，Ra⁰¹与Ra⁰²可以相互键合而形成环结构，Ya⁰为季碳原子，Ra⁰³¹、Ra⁰³²和Ra⁰³³分别独立地为可具有取代基的烃基，其中，Ra⁰³¹、Ra⁰³²和Ra⁰³³中的1个以上为具有以下述式(a0-p1-1)～(a0-p1-9)的任一个表示的极性基团的烃基，式(a0-r1-1)中，*表示与式(a0-1)中的羰氧基[－C(＝O)－O－]的氧基(－O－)键合的键，式(a0-p1-1)～(a0-p1-9)中，*表示与季碳原子(Ya⁰)键合的键。

【化2】

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，

所述结构单元(a0)的比例相对于构成所述树脂成分(A1)的全部结构单元的合计为10～70摩尔％。

3.一种抗蚀剂图案形成方法，其具有：

在支承体上，使用权利要求1或2所述的抗蚀剂组合物而形成抗蚀剂膜的工序；

将所述抗蚀剂膜曝光的工序；

以及将所述曝光后的抗蚀剂膜显影而形成抗蚀剂图案的工序。

4.一种高分子化合物，

其具有以下述通式(a0－1)表示的结构单元(a0)，

【化3】

式中，R为氢原子、碳数1～5的烷基或碳数1～5的卤代烷基，Va⁰为可具有醚键的2价烃基，n_a0为0～2的整数，Ra⁰⁰为以通式(a0－r1－1)表示的酸解离性基团，Ra⁰¹为可具有取代基的烃基，Ra⁰²为可具有取代基的烃基，Ra⁰¹与Ra⁰²可以相互键合而形成环结构，Ya⁰为季碳原子，Ra⁰³¹、Ra⁰³²和Ra⁰³³分别独立地为可具有取代基的烃基，其中，Ra⁰³¹、Ra⁰³²和Ra⁰³³中的1个以上为具有以下述式(a0-p1-1)～(a0-p1-9)的任一个表示的极性基团的烃基，式(a0-r1-1)中，*表示与式(a0-1)中的羰氧基[－C(＝O)－O－]的氧基(－O－)键合的键，式(a0-p1-1)～(a0-p1-9)中，*表示与季碳原子(Ya⁰)键合的键。

【化4】

5.根据权利要求4所述的高分子化合物，其特征在于，

所述结构单元(a0)的比例相对于构成所述高分子化合物的全部结构单元的合计为20～50摩尔％。