[发明专利]包含聚合物和添加剂的多孔制品，其制备方法以及其用途

权利要求书

1.一种聚合物组合物(C)，该聚合物组合物包含：

-至少一种聚合物(P)，该聚合物选自由以下各项组成的组：聚(芳醚酮)、聚(芳醚砜)、聚亚芳基硫醚、聚醚酰亚胺、聚(苯基醚)、和聚苯撑，以及

-基于该聚合物组合物(C)的总重量至少28wt.％的至少一种具有式(I)的添加剂：

R_a-Ar-X_b (I)

其中

-Ar是芳香族部分并且选自由以下各项组成的组：

其中Z是二价部分并且选自由以下各项组成的组：-SO₂-、-CO-和具有1至6个碳原子的亚烷基；

-每个R彼此相同或不同，选自由以下各项组成的组：卤素、羟基和C1-C3脂肪族基团；

-a是零或范围从1至5的整数；

-X是(SO₃^-),(M^p+)_1/p，其中M^p+是p价的金属阳离子；

-b是范围从1至4的整数。

2.如权利要求1所述的聚合物组合物，其中，该具有式(I)的添加剂是使得每个R彼此相同或不同，选自由以下各项组成的组：羟基和C1-C3脂肪族基团。

3.如权利要求1和2中任一项所述的聚合物组合物(C)，其中，式(I)中的Ar选自由以下各项组成的组：

4.如权利要求1和2中任一项所述的聚合物组合物(C)，其中，该添加剂是使得a是0、1或2。

5.如权利要求1和2中任一项所述的聚合物组合物(C)，其中，该添加剂具有如根据ASTMD3418通过差示扫描量热法(DSC)测量的至少150℃的熔点Tma(℃)。

6.如权利要求1和2中任一项所述的聚合物组合物(C)，其中，该聚合物(P)是半晶质的并且该添加剂具有熔点Tma(℃)，使得

Tmp-50≤Tma≤Tmp+50

其中Tmp(℃)是如根据ASTM D3418通过差示扫描量热法(DSC)测量的该半晶质聚合物的熔点。

7.如权利要求1和2中任一项所述的聚合物组合物(C)，其中，该添加剂是根据式(II)：

其中

-每个R彼此相同或不同，选自由以下各项组成的组：卤素、羟基和C1-C3脂肪族基团；

-a是零或范围从1至5的整数；

-X是(SO₃^-),(M^p+)_1/p，其中M^p+是p价的金属阳离子；

-b各自是1或2。

8.如权利要求1和2中任一项所述的聚合物组合物(C)，其中，该添加剂盐选自下组，该组由以下各项组成：苯磺酸盐、苯二磺酸盐、对甲苯磺酸盐、二甲苯磺酸盐、异丙苯磺酸盐、对伞花烃磺酸盐和十二烷基苯磺酸盐。

9.如权利要求1和2中任一项所述的聚合物组合物(C)，该聚合物组合物包含在30wt.％与70wt.％之间的该添加剂。

10.一种聚合物制品(A)，该聚合物制品包含如权利要求1至9中任一项所述的聚合物组合物(C)。

11.一种形成多孔聚合物膜(M)的方法，该方法包括：

(i)制备如权利要求1至9中任一项所述的聚合物组合物(C)，

(ii)将该聚合物组合物(C)加工成膜，

(iii)将该膜浸入水中。