[发明专利]包括耐磨层的层压件、包括所述层压件的设备及制造所述层压件的方法

权利要求书

1.一种层压件(100)，包括被设置在光学透射衬底(103)的表面(102)上的耐磨层(101)，其中，所述层包括材料的延伸远离所述表面的在空间上分离的突起(104)的图案，以及被插入在所述突起之间的二氧化硅(105)，其中，所述材料具有根据ASTM E384努氏硬度标准测量的大于所述二氧化硅的努氏硬度的努氏硬度。

2.根据权利要求1所述的层压件(100)，其中，所述突起(104)包括末端(106)，所述末端与所述二氧化硅(105)的与所述表面(102)相对的暴露表面(107)对准，或者从所述暴露表面突起。

3.根据权利要求1或2所述的层压件(100)，其中，所述突起(104)在远离所述表面(102)的方向上渐缩。

4.根据权利要求3所述的层压件(100)，其中，所述突起(104)是截头的，并且任选地，其中，所述渐缩使得所述突起的最小宽度在所述突起的最大宽度的5％与60％之间。

5.根据权利要求1-3中的任一项所述的层压件(100)，其中，所述突起(104)包括以下形状中的至少一种形状：圆锥形、截头圆锥形、双曲面形、棱锥形、截头棱锥形、圆顶形和截头圆顶形。

6.根据权利要求1-5中的任一项所述的层压件(100)，其中，所述材料包括从以下材料中选择的一种或多种材料：蓝宝石、氮化硅、立方氮化硼和金刚石。

7.根据权利要求1-6中的任一项所述的层压件(100)，其中，所述衬底(103)包括蓝宝石或金刚石。

8.根据权利要求1-7中的任一项所述的层压件(100)，其中，所述图案的周期在从10nm至350nm的范围内，和/或所述突起(104)的高度在从50nm至500nm的范围内。

9.根据权利要求1-8中的任一项所述的层压件(100)，其中，所述层(101)包括第一区域(108A)和第二区域(108B)；所述第一区域具有第一图案，并且所述第二区域具有与所述第一图案不同的第二图案，使得所述第一区域和所述第二区域相对于彼此具有不同的折射率和/或相对于彼此具有不同的光学干涉性质。

10.根据权利要求9所述的层压件(100)，其中，所述第一图案和所述第二图案相对于彼此包括不同形状的突起(104)。

11.一种包括光学透射部件的设备，包括根据权利要求1-10中的任一项所述的层压件(100)，任选地其中，所述光学透射部件是窗玻璃或屏幕。

12.一种制造层压件(100)的方法，所述层压件包括被设置在光学透射衬底(103)的表面(102)上的耐磨层(101)，所述方法包括：

在所述表面(102)上提供材料的层(20)；

构造所述层以形成延伸远离所述表面的在空间上分离的突起(104)的图案；

将二氧化硅(105)应用到所述图案，使得所述二氧化硅被插入在所述突起之间；

其中，所述材料具有根据ASTM E384努氏硬度标准测量的大于所述二氧化硅的努氏硬度的努氏硬度。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述构造包括：

在所述层(20)上提供图案化的蚀刻掩模(50)，所述掩模被图案化，使得所述掩模覆盖所述层的部分并且留下另外的部分不被覆盖；并且

使用所述图案化的蚀刻掩模来选择性地蚀刻所述层，使得所述另外的部分至少部分地被移除，从而形成所述图案。