[发明专利]高耐蚀刻性旋涂式碳硬掩膜组合物以及利用该组合物的图案化方法

权利要求书

1.一种旋涂式硬掩膜组合物，其特征在于，

作为由以下化学式1表示的二苯并咔唑衍生物聚合物，包含重均分子量在3,000至8,000的聚合物；

化学式1

在所述化学式中，l、m以及n的范围分别在1≤l≤20、1≤m≤20、1≤n≤20；

R1为氢、中的任何一种；R2为R3为中的任何一种。

2.根据权利要求1所述的旋涂式硬掩膜组合物，其特征在于，

聚合物的重均分子量在3,500至7,000。

3.根据权利要求2所述的旋涂式硬掩膜组合物，其特征在于，

聚合物的重均分子量在5,000至6,000。

4.根据权利要求1所述的旋涂式硬掩膜组合物，其特征在于，

所述硬掩膜组合物包含：二苯并咔唑衍生物聚合物、有机溶剂以及表面活性剂。

5.根据权利要求4所述的旋涂式硬掩膜组合物，其特征在于，

聚合物占据所述组合物总量的1至50重量％。

6.根据权利要求4所述的旋涂式硬掩膜组合物，其特征在于，

有机溶剂占据所述组合物总量的50至99重量％。

7.根据权利要求4所述的旋涂式硬掩膜组合物，其特征在于，

表面活性剂占据所述组合物总量的0至2重量％。

8.根据权利要求4所述的旋涂式硬掩膜组合物，其特征在于，

有机溶剂从由丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、环己酮、γ-丁内酯、乳酸乙酯、甲基乙基酮、乙酸正丁酯、N-甲基吡咯烷酮、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、二甲基甲酰胺中选择的一种或者两种以上的混合物组成的群组中选择。

9.根据权利要求4所述的旋涂式硬掩膜组合物，其特征在于，

表面活性剂从由聚氧乙烯烷基醚类、聚氧乙烯烷基苯基醚类、聚氧乙烯聚氧丙烯类、聚氧乙烯山梨糖醇类中选择的一种或者两种以上的混合物组成的群组中选择。

10.根据权利要求4所述的旋涂式硬掩膜组合物，其特征在于，

聚合物占据所述组合物总量的1至50重量％；有机溶剂占据所述组合物总量的50至99重量％；表面活性剂占据所述组合物总量的0至2重量％。

11.根据权利要求10所述的旋涂式硬掩膜组合物，其特征在于，

有机溶剂从由丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、环己酮、γ-丁内酯、乳酸乙酯、甲基乙基酮、乙酸正丁酯、N-甲基吡咯烷酮、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、二甲基甲酰胺中选择的一种或者两种以上的混合物组成的群组中选择。

12.根据权利要求10所述的旋涂式硬掩膜组合物，其特征在于，

表面活性剂从由聚氧乙烯烷基醚类、聚氧乙烯烷基苯基醚类、聚氧乙烯聚氧丙烯类、聚氧乙烯山梨糖醇类中选择的一种或者两种以上的混合物组成的群组中选择。

13.一种形成硬掩膜层的图案化方法，其特征在于，

将权利要求1至12中的任意一项的硬掩膜组合物通过旋涂进行涂敷于被蚀刻层上部的工艺以及烘烤工艺。

14.根据权利要求13所述的形成硬掩膜层的图案化方法，其特征在于，

所述烘烤工艺在150℃至400℃的温度下进行1至5分钟。