[发明专利]退火被处理体的制造方法、激光退火基台和激光退火处理装置

说明书

本发明提供一种退火被处理体的制造方法、激光退火基台和激光退火处理装置。其中，被处理体的制造方法对被处理体照射激光来进行所述被处理体的退火，包括：支承被处理体的支承步骤；以及对支承的被处理体照射所述激光的照射步骤，所述支承步骤中，至少在对所述被处理体照射激光的照射区域中，利用通过旋转位置调整上端高度位置的凸轮构件来对所述被处理体进行支承。

技术领域

本发明涉及利用激光进行照射而实施退火处理的退火被处理体的制造方法、支承所述被处理体的激光退火基台以及对被处理体进行激光退火处理的激光退火处理装置。

背景技术

在现有的激光退火处理装置中，在进行激光退火处理时，将激光加工对象物设置在试料台上并对激光加工对象物照射激光，根据激光加工对象物的大小来制作试料台。而且，最近激光加工对象物不断大型化，随着激光加工对象物变大试料台也变大。因此，重量、表面的平整度、移动时的晃动、移动时的速度的偏差等情况变差，难以维持在激光处理中要求的规格。尤其是，激光退火处理装置用于OLED或高清晰度的LCD等高性能的显示器，要求性能变得更高，在大型基板、尤其是2m以上的基板的激光加工中，试料台难以满足激光加工所需要的规格。例如，若激光加工对象物的表面平整度受损，则有时照射激光时的焦点和照射位置的关系发生偏差，退火效果会根据不同位置而不均匀。

对此，例如，在专利文献1中提出了一种制造装置，包括：具有多个辊子的传送被处理对象物用辊子传送单元；以及用于对被处理对象物进行处理的激光加工装置，激光加工装置具有激光振荡器和自动对焦机构，激光振荡器与自动对焦机构相连接，能将从激光振荡器振荡产生的激光束经由自动对焦机构照射到被处理对象物的表面来进行处理。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2010-89142号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

然而，记载在专利文献1的装置中，不仅结构复杂，而且不容易将激光束准确地自动对焦在平坦面连续变化的被处理对象物上，尤其是在以线束形状照射激光的情况下，难以通过自动对焦在整个长轴方向上对准焦点位置。

本发明是将上述情况作为背景完成的，其目的是提供一种退火被处理体的制造方法、激光退火基台和激光退火处理装置，能在激光的照射区域使被处理体的平整度适当，能良好地进行退火处理。

解决技术问题的技术方案

即，本发明的退火被处理体的制造方法中，第一项发明是对被处理体照射激光来进行所述被处理体的退火的退火被处理体的制造方法，其特征在于，包括：

支承所述被处理体的支承步骤；以及对所支承的被处理体照射所述激光的照射步骤，所述支承步骤中，至少在对所述被处理体照射激光的照射区域中，利用通过旋转位置调整上端高度位置的凸轮构件来对所述被处理体进行支承。

第二项发明的退火被处理体的制造方法的特征在于，在所述第一项发明中，在所述照射步骤中，对所述被处理体相对扫描并照射所述激光，在所述支承步骤中，伴随着所述激光的相对扫描，利用所述凸轮构件至少对位于激光照射区域的所述被处理体进行支承。

第三项发明的退火被处理体的制造方法的特征在于，在所述第一项或第二项发明中，包括：对位于所述激光照射区域的被处理体的高度位置进行测定的测定步骤；以及基于测定到的所述高度位置来确定所述凸轮构件的旋转位置的高度位置调整步骤。

第四项发明的激光退火基台的特征在于，包括对被照射激光的被处理体进行支承的支承部，所述支承部具有：凸轮构件，该凸轮构件至少对应于所述激光照射到被处理体上的照射区域从下表面侧支承所述被处理体；以及使所述凸轮构件旋转的凸轮旋转驱动部。