[发明专利]超声波内壁击打系统的击打位置控制装置

权利要求书

1.一种击打位置控制装置，其特征在于，包括：

超声波发生部，用于发生超声波；

超声波辐射部，配置为与所述超声波发生部接触并延续，内部包括超声波传导介质，通过所述超声波传导介质传导所述超声波；以及

插入构件，构成为插入被处理物的内部空间，所述被处理物配置在所述超声波辐射部内，

所述插入构件从被处理物的一侧插入到所述内部空间，从所述超声波发生部发生的超声波通过所述超声波传导介质从所述被处理物的另一侧传导，通过所述超声波传导介质传导的超声波在插入到所述被处理物的内部空间的所述插入构件的面反射，使得在所述超声波传导介质内形成为驻波，所述被处理物的内壁被所述驻波击打，根据所述插入构件的插入程度调节所述被处理物的所述内壁的击打位置。

2.根据权利要求1所述的击打位置控制装置，其特征在于，所述击打位置是对应于所述驻波的压力波腹的位置。

3.根据权利要求2所述的击打位置控制装置，其特征在于，所述被处理物的内壁在对应于所述压力波腹的位置处被空化进行击打处理。

4.根据权利要求1所述的击打位置控制装置，其特征在于，插入到所述被处理物的所述内部空间内的所述插入构件的所述面具有反射面，所述反射面用于反射从所述超声波发生部发生的超声波。

5.根据权利要求4所述的击打位置控制装置，其特征在于，所述反射面包括刚体。

6.根据权利要求1所述的击打位置控制装置，其特征在于，所述被处理物包括喷管的内壁。

7.根据权利要求1所述的击打位置控制装置，其特征在于，所述插入构件包括杆。

8.根据权利要求4所述的击打位置控制装置，其特征在于，所述超声波通过所述超声波传导介质和所述反射面的声阻抗差进行反射而增幅为所述驻波，形成在所述超声波传导介质内。

9.根据权利要求1所述的击打位置控制装置，其特征在于，所述超声波发生部的至少一部分从所述被处理物的所述另一侧插入到所述被处理物的所述内部空间。