[发明专利]电容器、电极、还原氧化石墨烯以及制造的方法和设备

权利要求书

1.一种方法，其包括：

将氧化石墨烯(GO)用光束或辐射束来照射，从而形成三维(3D)图案的还原氧化石墨烯(RGO)，其中所述RGO为具有孔的多孔RGO，所述孔具有通过控制所述光束或辐射束来调节的尺寸。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述GO包括一层或多层多孔GO膜。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述多孔GO膜的各层包括：

多层多孔GO片；和

位于两个以上的GO片之间的氧官能团。

4.根据权利要求3所述的方法，其包括将所述GO片之间的氧官能团中的至少一部分通过照射来除去。

5.根据权利要求3或4所述的方法，其包括通过照射所述多孔GO膜而在所述多孔GO膜中产生孔。

6.根据权利要求2～5任一项所述的方法，其包括在照射期间使所述光束或辐射束相对于所述多孔GO膜移动。

7.根据权利要求2～6任一项所述的方法，其中所述GO包括由透明的绝缘介电材料隔开的多层多孔GO膜。

8.根据权利要求7所述的方法，其包括通过照射使所述多层多孔GO膜同时还原。

9.根据权利要求1～8任一项所述的方法，其中所述GO包括GO溶液。

10.根据权利要求9所述的方法，其进一步包括：

将石墨氧化，从而形成氧化的石墨；和

将所述氧化的石墨在溶剂中剥落，从而形成所述GO溶液。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其进一步包括：

将基材浸没在所述GO溶液中，从而接收所形成的RGO。

12.根据权利要求9～11任一项所述的方法，其进一步包括：

使所述光束或辐射束聚焦至在所述GO溶液的表面上的点或者接近所述GO溶液的表面的点。

13.根据权利要求9～12任一项所述的方法，其进一步包括：

将交联剂添加至所述GO溶液中。

14.根据权利要求13所述的方法，其中照射使所述GO交联和还原。

15.根据权利要求1～14任一项所述的方法，其中所述光束或辐射束包括连续波(CW)激光束或脉冲激光束。

16.根据权利要求15所述的方法，其进一步包括：

使基材相对于所述GO溶液的表面向下移动，从而制作所述RGO的3D图案。

17.根据权利要求16所述的方法，其中所述3D图案包括阳极与阴极缠结的3D图案。

18.根据权利要求1～17任一项所述的方法，其进一步包括：

使用所形成的RGO制成RGO电极。

19.根据权利要求18所述的方法，其进一步包括：

在照射之前使集电体连接至所述GO。

20.根据权利要求18或19所述的方法，其进一步包括：

在照射之后使集电体连接至所述RGO。

21.一种还原氧化石墨烯(RGO)三维(3D)结构体，其通过根据权利要求1～17任一项所述的方法制成。

22.一种还原氧化石墨烯(RGO)电极，其通过根据权利要求1～18任一项所述的方法制成。