[发明专利]半导体器件和包括该半导体器件的半导体器件封装有效

专利信息
申请号: 201780068543.9 申请日: 2017-11-03
公开(公告)号: CN109923682B 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 成演准;姜基晩;金珉成;朴修益;李容京;李恩得;林显修 申请(专利权)人: 苏州乐琻半导体有限公司
主分类号: H01L33/02 分类号: H01L33/02;H01L33/36;H01L33/22;H01L33/48;H01L33/10;H01L33/42
代理公司: 苏州锦尚知识产权代理事务所(普通合伙) 32502 代理人: 滕锦林
地址: 215499 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体器件 包括 封装
【权利要求书】:

1.一种半导体器件,包括:

发光结构,包括第一导电半导体层、第二导电半导体层、和设置在所述第一导电半导体层与第二导电半导体层之间的有源层;

第一电极,电耦接到所述第一导电半导体层;以及

第二电极,电耦接到所述第二导电半导体层,

其中,所述第一电极包括第一层、第二层和第三层,

所述第一层包括第一金属层,所述第一金属层包括第一金属,并且

所述第一金属的扩散系数大于所述第三层中包含的第三金属的扩散系数;

所述第一层还包括:

第1-1层;以及

第1-2层,设置在所述第1-1层与第一金属层之间,并且

其中,所述第一金属层的厚度在所述第1-1层和第1-2层的厚度之和的1.5倍至2.5倍的范围内。

2.根据权利要求1所述的半导体器件,其中,所述第二层的厚度在所述第一金属层的厚度的0.4至0.53倍的范围内。

3.根据权利要求1所述的半导体器件,其中,所述第二层设置在所述第一金属层和第三层之间。

4.根据权利要求1所述的半导体器件,其中,所述第1-1层包括Cr,并且

其中,所述第1-2层包括Ti。

5.根据权利要求1所述的半导体器件,还包括反射层,设置在所述第二电极上;以及

覆盖层,设置在所述反射层上并包括多个层。

6.根据权利要求1所述的半导体器件,其中,所述发光结构还包括多个凹槽,穿过所述第二导电半导体层和有源层,并且延伸到所述第一导电半导体层的部分区域,并且

所述第一电极设置在所述多个凹槽中。

7.一种半导体器件,包括:

发光结构,包括第一导电半导体层、第二导电半导体层、和设置在所述第一导电半导体层与第二导电半导体层之间的有源层;

第一电极,电耦接到所述第一导电半导体层;以及

第二电极,电耦接到所述第二导电半导体层,

其中,所述第一电极包括第一层、第二层和第三层,

所述第一层包括第一金属层,所述第一金属层包括第一金属,并且

所述第一金属的扩散系数大于所述第三层中包含的第三金属的扩散系数;

所述第一层包括沿垂直于所述第一层厚度的方向排布的第一区域和第二区域,所述第二区域位于所述第一区域和所述第二层之间;

包含在所述第二区域中的第一金属的比率大于包含在所述第一区域中的第一金属的比率,并且

所述第一区域与第二区域的厚度比在3:7至6.3:3.5的范围内。

8.根据权利要求7所述的半导体器件,其中,所述第一金属是Al,并且

所述第一区域的Al比率与所述第二区域的Al比率之比在1:1.5至1:2.5的范围内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州乐琻半导体有限公司,未经苏州乐琻半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780068543.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top