[发明专利]用于分析显微镜的尺寸校准的系统和方法

权利要求书

1.一种用于分析显微镜的校准元件，其包括多维特征结构，该多维特征结构具有按亮特征和暗特征的非周期性图案布置的大特征阵列，所述大特征中的每一个包括以行和列的非周期性图案布置的多个小特征，其中所述亮特征的小特征包括以50％的概率出现的光反射结构，并且所述暗特征的小特征包括以50％的概率出现的光吸收结构或光透射结构，并且其中所述亮特征和所述暗特征当被光束照射时呈现对比度。

2.根据权利要求1所述的校准元件，其中所述光束包括激光光束。

3.根据权利要求1所述的校准元件，其中所述光束包括红外光束。

4.权利要求1所述的校准元件，其中所述对比度在所述光束的反射中表现。

5.根据权利要求1所述的校准元件，其中所述大特征包括约40μm的正方形尺寸，以及所述小特征包括约8μm的正方形尺寸。

6.根据权利要求1所述的校准元件，其中所述光反射结构包括金属涂覆的特征。

7.根据权利要求1所述的校准元件，其中所述光吸收结构包括黑色镀铬的特征。

8.根据权利要求1所述的校准元件，其中所述光吸收结构包括光致抗蚀剂涂覆的特征。

9.根据权利要求1所述的校准元件，其中所述非周期性的图案还包括十字线。

10.根据权利要求1所述的校准元件，其中大特征和小特征的所述非周期性图案在与物镜的视场相关联的至少两个区域上不重复。

11.根据权利要求10所述的校准元件，其中第一区域包括50μm至600μm之间的范围内的尺寸，并且第二区域包括5μm至60μm之间的范围内的尺寸。

12.根据权利要求1所述的校准元件，其中所述多维特征结构被设置在载玻片上。

13.根据权利要求12所述的校准元件，其中所述多维特征结构被设置在所述载玻片的底表面上，使得所述非周期性的图案从上方通过所述载玻片成像。

14.一种放大率测量系统，其包括：

显微镜镜台，所述显微镜镜台被配置用于在已知距离上平移；

校准元件，所述校准元件设置在所述显微镜镜台上，所述校准元件包括多维特征结构，该多维特征结构具有按亮特征和暗特征的非周期性图案布置的大特征阵列，所述大特征中的每一个包括以行和列的非周期性图案布置的多个小特征，其中所述亮特征的小特征包括以50％的概率出现的光反射结构，并且所述暗特征的小特征包括以50％的概率出现的光吸收结构或光透射结构，并且其中所述亮特征和所述暗特征在被光束照射时呈现对比度；

一个或多个检测器，所述检测器通过物镜收集所述多维特征结构的多个图像；以及

计算机，所述计算机被配置成基于平移之前和之后的所述多维特征结构的图像的相关性来确定所述物镜的放大率级别。

15.根据权利要求14所述的放大率测量系统，其中所述计算机被进一步配置成以基于所述所确定的放大率级别与每个均与物镜的实施方案相关联的多个放大率级别中的一个之间最接近的匹配来确定获取所述图像的所述物镜。

16.根据权利要求14所述的放大率测量系统，其中所述检测器包括光谱仪。

17.根据权利要求14所述的放大率测量系统，其中所述检测器包括光学照相机。

18.根据权利要求14所述的放大率测量系统，其中所述对比度在所述光束的反射中呈现。