[发明专利]具有具备增强功能性的集成型计量工具的光刻系统

说明书

本发明提供具有增强性能的光刻系统及方法，其基于在打印工具中更广泛地利用集成型计量工具以依更复杂及经优化方式来处置所述系统中的计量测量。揭示额外操作通道，使得所述集成型计量工具能够关于所述打印工具的指定时间限制而监测及/或分配通过所述集成型计量工具并通过独立计量工具的计量测量；调整及优化计量测量配方；提供更佳过程控制以优化所述打印工具的过程参数；以及根据计量测量景观来对所述打印工具的过程参数进行分组。

相关申请案的交叉参考

本申请案要求2016年11月14日申请的第62/421,932号美国临时专利申请案的权益，所述申请案的全文以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及计量学领域，并且更特定来说涉及优化的光刻系统。

背景技术

光刻系统必须在缩短的打印时间要求内处置日益复杂、更小的打印节点及计量输入的增加。

发明内容

下文是提供对本发明的初始理解的简要概述。所述概述不一定识别关键要素，也不限制本发明的范围，而是仅作为对下文描述的介绍。

本发明的一个方面提供一种光刻系统，其包括：打印工具，其具有集成型计量工具；及独立计量工具，其连接到所述打印工具并经配置以对由所述打印工具产生的晶片执行计量测量，其中所述光刻系统进一步包括将所述集成型计量工具与所述独立计量工具连接的监测通道，且所述集成型计量工具进一步经配置以在所述集成型计量工具与所述独立计量工具之间分配计量测量，并且关于所述打印工具的指定时间限制监测所述分配及所述计量测量。

本发明的这些、额外及/或其它方面及/或优点在下面的详细描述中阐述；可能可从详细描述中推断；及/或通过实践本发明来得知。

附图说明

为更佳地理解本发明的实施例并且展示如何实现本发明，现在将纯粹以实例的方式参考附图，其中相同元件符号始终表示对应元件或区段。

在附图中：

图1是根据现有技术的说明光刻系统的高阶示意性框图。

图2是根据本发明的一些实施例的说明具有改进过程跟踪及计量测量分析的光刻系统的高阶示意性框图。

图3及4是根据本发明的一些实施例的说明在集成型计量工具的层级处具有配方优化的光刻系统的高阶示意性框图。

图5是根据本发明的一些实施例的说明具有改进过程控制的光刻系统的高阶示意性框图。

图6是根据本发明的一些实施例的说明具有基于景观的分组的光刻系统的高阶示意性框图。

图7是根据本发明的一些实施例的说明具有上文揭示的各种通道配置的光刻系统的高阶示意性框图。

图8是根据本发明的一些实施例的说明方法的高阶流程图。

具体实施方式

在以下描述中，描述本发明的各个方面。为解释的目的，阐述具体配置及细节以便提供对本发明的透彻理解。然而，对于所属领域的技术人员来说也将显而易见的是，可在不具有本文所呈现的特定细节的情况下实践本发明。此外，可省略或简化众所周知的特征以免使本发明不清楚。具体参照图式，应强调，所展示的详情仅作为实例，并且仅出于对本发明的说明性讨论的目的，并且因提供被认为是本发明的原理及概念方面的最有用及容易理解描述而呈现。在此方面，未试图展示比本发明的基本理解所需更详细的本发明的结构细节，与附图一起所作的描述使所属领域的技术人员明白可如何在实践中体现本发明的若干形式。