[发明专利]补偿光学系统中的物理效应

说明书

估计离开声光材料的光束的波前；生成用于包括声光材料的声光系统的控制信号，该控制信号基于估计的光束的波前；以及将该控制信号施加到声光系统以生成在声光材料中传播的频率啁啾声波，该频率啁啾声波在声光材料中形成瞬态衍射元件，瞬态衍射元件和光束之间的相互作用调节光束的波前以补偿光束的波前的畸变，波前的畸变至少部分地由声光材料中的物理效应引起。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2016年11月11日提交的美国专利申请号15/349,600的优先权，并且其通过引用整体并入本文。

技术领域

本公开涉及补偿光学系统中的物理效应。物理效应可以是声光材料中的热效应。例如，可以校正由声光材料的变热引起的波前畸变。

背景技术

声光调制器(AOM)包括换能器和声光材料。换能器接收电信号并将电信号转换成在声光材料中传播的声波。入射在声光材料上的光被声波在声光材料中传播时所发生的周期性折射率调制衍射。

可以将AOM使用在极紫外(EUV)光源中，例如以使来自光束路径的杂散光在某些时候和/或在某个方向上偏转(例如，偏转到另一个光束路径中和/或偏转到光束收集器(beamdump)中)。为了使用AOM对光进行偏转，可以将根据时间具有恒定频率的声波注入到AOM的声光材料中。AOM可以是计算机控制的，例如，AOM可以由在电子存储器中存储为可执行指令的进程来控制，该指令能够在一个或多个电子处理器上执行。

EUV光包括例如具有约50nm或更小(有时也称为软x射线)的波长的电磁辐射，包括波长为约13nm的光。可以将EUV光使用在光刻工艺中以在衬底(例如，硅晶片)中制作极小的特征。

发明内容

在一个总体方面，估计离开声光材料的光束的波前；生成用于包括所述声光材料的声光系统的控制信号，所述控制信号基于估计的所述光束的波前；和将所述控制信号施加到所述声光系统以生成在所述声光材料中传播的频率啁啾声波，所述频率啁啾声波在所述声光材料中形成瞬态衍射元件，所述瞬态衍射元件和所述光束之间的相互作用调节所述光束的所述波前以补偿所述光束的所述波前的畸变，所述波前的所述畸变至少部分地由所述声光材料中的物理效应引起。

实现可以包括以下特征中的一个或多个特征。估计离开所述声光材料的所述光束的所述波前可以包括：接收离开所述声光材料的所述光束的至少一部分，并且基于接收到的所述光束的第一脉冲的部分来估计所述波前。

所述声光材料的所述物理效应可以是所述声光材料的热畸变。估计离开所述声光材料的所述光束的所述波前可以包括：访问所述声光材料的多个温度测量，所述多个温度测量中的每一个温度测量是所述声光材料的不同部分的温度；基于所访问的多个温度来估计所述声光材料的温度分布；基于所述声光材料的估计的温度分布来估计所述声光材料的折射率的空间分布；以及使用估计的所述声光材料的折射率来估计离开所述声光材料的所述光束的所述波前。

所述声光材料可以吸收所述光束、所述频率啁啾声波和在所述声光材料中传播的除了频率啁啾声波之外的声波中的一项或多项作为热量，并且所述声光材料的所述物理效应可以是由吸收的热量引起的热畸变。

所述瞬态衍射元件还可以针对除了所述声光材料的所述物理效应之外的效应补偿所述光束。除了所述声光材料的所述物理效应之外的所述效应可以包括除了所述声光材料之外的光学元件的物理效应，所述光学元件被定位成与所述光束相互作用。