[发明专利]聚合物、有机膜组成物以及形成图案的方法

权利要求书

1.一种聚合物，包括：

由化学式1表示的结构单元，及

由化学式2表示的结构单元：

[化学式1]

[化学式2]

其中，在化学式1及化学式2中，

A¹为由化学式X表示的部分，

A²为经取代或未经取代的C6至C30芳环且具有不同于A¹的结构，B¹及B²独立地为经取代或未经取代的C6至C30芳环，以及

*为键联点：

[化学式X]

其中，在化学式X中，

Ar为经取代或未经取代的四边形环、经取代或未经取代的五边形环、经取代或未经取代的六边形环或其稠环(fused ring)，

R^a为氢、羟基、卤素、经取代或未经取代的C1至C30烷氧基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C2至C30炔基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C1至C30杂烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂芳基或其组合，

Z^a独立地为羟基、卤素、经取代或未经取代的C1至C30烷氧基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C2至C30炔基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C1至C30杂烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂芳基或其组合，以及

m为0或1。

2.根据权利要求1所述的聚合物，其中在化学式1及化学式2中，B¹及B²独立地为族群1的经取代或未经取代的部分中的一者：

[族群1]

3.根据权利要求1所述的聚合物，其中在化学式1中，A¹为族群2的部分中的一者：

[族群2]

其中，在族群2中，

R¹及R²独立地为氢、羟基、卤素、经取代或未经取代的C1至C30烷氧基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C2至C30炔基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C1至C30杂烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂芳基或其组合，

其限制条件为，在族群2中，每一部分的氢独立地经以下基团置换或未经置换：羟基、卤素、经取代或未经取代的C1至C30烷氧基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C2至C30炔基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C1至C30杂烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂芳基或其组合。

4.根据权利要求1所述的聚合物，其中在化学式2中，A²为族群1的经取代或未经取代的部分中的一者：

[族群1]

5.根据权利要求4所述的聚合物，其中A²经至少一个羟基取代。

6.根据权利要求1所述的聚合物，其中在化学式1及化学式2中，B¹及B²为经取代或未经取代的C6至C30芳环且具有相同结构。

7.根据权利要求1所述的聚合物，其中重量平均分子量为1,000至200,000。