[发明专利]用于检测材料的X射线荧光系统和方法以及控制系统

权利要求书

1.一种控制系统，用于控制X射线荧光系统检测由样品携带的至少一种材料的操作，所述控制系统包括：

数据输入实用工具，其配置为和可操作为：与存储实用工具进行数据通信，用于接收包括关于由所述样品携带的所述至少一种材料的材料相关数据的输入数据；

数据处理器和分析仪实用工具，其配置为和可操作为：用于分析所述输入数据并确定所述X射线荧光系统的最佳几何特征，以优化所述X射线荧光系统的操作条件，从而使被限制在所述样品的存在或预期存在所述材料的表面区域的体积中的主X射线辐射的量最大化，从而增加由所述体积吸收主辐射，并且减少所述主辐射穿过所述表面区域的所述体积进入样品块；并且优化所述X射线荧光系统的检测器的操作条件，从而使从所述表面区域发射的二次辐射的到达所述X射线荧光系统的所述检测器的部分最大化；以及用于生成指示所述X射线荧光系统的最佳操作条件的实现所述X射线荧光系统的所述几何特征的调整的操作数据，

其中所述材料相关数据包括以下中的至少一者：所述至少一种材料在所述样品内的位置；所述样品的所述至少一种材料所在的表面区域的侧向尺寸；以及定义所述体积的所述至少一种材料的结构的厚度，

其中所述几何特征包括以下中的至少两者：所述X射线荧光系统的主辐射发射平面与样品平面之间的距离；所述X射线荧光系统的检测平面与样品平面之间的距离；由所述X射线荧光系统定义的照射通道的角度取向；以及由所述检测器定义的检测通道的角度取向。

2.根据权利要求1所述的控制系统，其中，所述至少一种材料与由所述样品携带的至少一种标记物相关联。

3.根据权利要求1所述的控制系统，其中，所述几何特征包括位于在所述X射线荧光系统中使用的X射线源的发射端处的散射板组件的配置。

4.根据前述权利要求中任一项所述的控制系统，其中，所述数据处理器和分析仪还配置为和可操作为用于处理由所述X射线荧光系统检测到的测量数据并识别所述至少一种标记物。

5.一种X射线荧光系统，用于检测由样品携带的至少一种材料，所述X射线荧光系统包括：X射线源，用于朝向样品平面发射主辐射；检测器，用于检测来自所述样品的二次辐射；以及控制器；其中，所述控制器配置为和可操作为用于接收由根据权利要求1所述的控制系统所生成的指示所述最佳操作条件的所述操作数据并调整所述X射线荧光系统的几何特征，所述几何特征包括以下中的至少两者：所述X射线源的主辐射发射平面与样品平面之间的距离；所述检测器的检测平面与样品平面之间的距离；由所述X射线源定义的照射通道的角度取向；以及由所述检测器定义的检测通道的角度取向。

6.根据权利要求5所述的X射线荧光系统，其中，所述至少一种材料与由所述样品携带的至少一种标记物相关联。

7.根据权利要求5或6所述的X射线荧光系统，其中，所述X射线源包括位于所述X射线源的发射端部的散射板组件，所述散射板组件配置为用于吸收所述主辐射并发射期望波长和朝向样品平面上的预定区域传播的方向的二次辐射。

8.根据权利要求7所述的X射线荧光系统，所述几何特征还包括：待在所述X射线源中使用的散射板组件的配置。