[发明专利]具有非对称支撑结构的自动聚焦设备

权利要求书

1.一种具有非对称支撑结构的自动聚焦设备，其特征在于，该自动聚焦设备包括：

具有磁体的第一框架；

第二框架，该第二框架具有用于使所述第一框架在光轴方向上移动的自动聚焦线圈以及对所述磁体产生吸引力的轭；

位于所述第一框架和所述第二框架之间的第一球体组，该第一球体组具有沿着所述光轴方向布置的数量为n的球体，n为4以上的自然数；以及

在与所述第一球体组不同的位置处位于所述第一框架和所述第二框架之间的第二球体组，该第二球体组具有沿着所述光轴方向布置的数量为m的球体，m为4以上的自然数，

其中，所述第一球体组包括两个第一支撑球体，所述两个第一支撑球体比所述第一球体组中的其它球体具有更大尺寸，并且所述第二球体组包括两个第二支撑球体，所述两个第二支撑球体比所述第二球体组中的其它球体具有更大尺寸，

其中，所述第一支撑球体位于所述第一球体组的两端处，并且

其中，所述第二支撑球体位于所述第二球体组的中央处并且彼此相邻。

2.根据权利要求1所述的具有非对称支撑结构的自动聚焦设备，其特征在于，

其中，所述第一支撑球体和所述第二支撑球体具有相同尺寸。

3.根据权利要求1所述的具有非对称支撑结构的自动聚焦设备，其特征在于，

其中，所述n和m为4，并且

其中，所述第一支撑球体位于所述第一球体组中基于所述光轴方向而言的第一位置和第四位置，并且所述第二支撑球体位于所述第二球体组中基于所述光轴方向而言的第二位置和第三位置。

4.根据权利要求1所述的具有非对称支撑结构的自动聚焦设备，其特征在于，

其中，所述第一框架具有沿着所述光轴方向延伸的第一引导凹槽和第二引导凹槽，

其中，所述第二框架具有分别面对所述第一引导凹槽和第二引导凹槽的第一容纳凹槽和第二容纳凹槽，并且

其中，所述第一球体组位于所述第一引导凹槽和所述第一容纳凹槽之间，并且所述第二球体组位于所述第二引导凹槽和所述第二容纳凹槽之间。

5.根据权利要求4所述的具有非对称支撑结构的自动聚焦设备，其特征在于，

其中，所述第一引导凹槽和所述第一容纳凹槽中的至少一者具有V形横截面。