[发明专利]直接成像曝光装置以及直接成像曝光方法

权利要求书

1.一种直接成像曝光装置，其特征在于，具备：

曝光单元，以符合设计曝光图案的图案向曝光区域照射光；以及

移动机构，使对象物经过曝光区域相对地移动，该对象物的表面形成有通过进行临界曝光量以上的曝光而感光的感光层，

曝光单元具备：

光源；

空间光调制器，配置于来自光源的光所照射的位置，具有多个像素，以使向曝光区域照射的光成为符合设计曝光图案的图案的方式使来自光源的光进行空间调制，所述多个像素被设为使光朝向曝光区域进行取向的状态即开启状态和不使光朝向曝光区域进行取向的状态即关闭状态中的某一种；以及

光学系统，将由空间光调制器进行了空间调制后的光投影到曝光区域，

所述直接成像曝光装置，设有：

调制器控制器，控制空间光调制器的各像素；以及

存储部，存储有曝光控制数据，该曝光控制数据是调制器控制器用于控制各像素的开启关闭的数据，

在曝光区域，设定了与空间光调制器的各像素对应的对应坐标，

在对象物的表面，设定了表示应被曝光的位置的要曝光点，各要曝光点是以曝光点间距的距离相互隔开的点，

光学系统在与空间光调制器的开启状态的各像素对应的各对应坐标上将该像素的像素图案进行投影，

移动机构使对象物移动，以使对象物的一个要曝光点的位置根据沿着移动方向的扫描线上的像素图案而被曝光并且还根据相邻的扫描线上的像素图案的周边部而被叠加地曝光，各像素图案的照度分布是在中央部变高而在周边部变低的分布，

曝光控制数据使得当由移动机构使对象物移动时，对象物的表面的同一要曝光点以包含一次及两次以上的规定次数位于像素图案所投影的对应坐标而进行曝光，

所述曝光控制数据中的规定次数，对于到设计曝光图案的边界的距离为曝光点间距以上的要曝光点而言是最大次数，对于到设计曝光图案的边界的距离小于曝光点间距的要曝光点而言，是根据到边界的距离而设定的比最大次数少的次数。

2.如权利要求1所述的直接成像曝光装置，其特征在于，

所述空间光调制器是数字微镜器件。

3.一种直接成像曝光方法，其特征在于，

具备以下步骤：

调制器照射步骤，向空间光调制器照射来自光源的光，该空间光调制器具有多个像素，该多个像素被设为使光朝向曝光区域进行取向的状态即开启状态和不使光朝向曝光区域进行取向的状态即关闭状态中的某一种；

调制器控制步骤，控制空间光调制器，以使向曝光区域照射的光成为符合设计曝光图案的图案；

投影步骤，利用光学系统将来自空间光调制器的光向曝光区域投影；以及

移动步骤，使对象物经过曝光区域相对地移动，该对象物的表面形成有通过进行临界曝光量以上的曝光而感光的感光层，

在曝光区域，设定了与空间光调制器的各像素对应的对应坐标，

在对象物的表面，设定了表示应被曝光的位置的要曝光点，各要曝光点是以曝光点间距的距离相互隔开的点，

在投影步骤中，在与空间光调制器的开启状态的各像素对应的各对应坐标上将该像素的像素图案进行投影，

在投影步骤及移动步骤中，使对象物移动，以使对象物的一个要曝光点的位置根据沿着移动方向的扫描线上的像素图案而被曝光并且还根据相邻的扫描线上的像素图案的周边部而被叠加地曝光，各像素图案的照度分布是在中央部变高而在周边部变低的分布，

在调制器控制步骤及移动步骤中，使得当由移动机构使对象物移动时，对象物的表面的同一要曝光点以包含一次及两次以上的规定次数位于像素图案所投影的对应坐标而进行曝光，

所述规定次数，对于到设计曝光图案的边界的距离为曝光点间距以上的要曝光点而言是最大次数，对于到设计曝光图案的边界的距离小于曝光点间距的要曝光点而言，是根据到边界的距离而设定的比最大次数少的次数。

4.如权利要求3所述的直接成像曝光方法，其特征在于，

所述空间光调制器是数字微镜器件。