[发明专利]用于对可流动介质进行工艺流程整合式光学分析的系统

权利要求书

1.用于对可流动介质进行工艺流程整合式光学分析的系统，所述系统包括：

-用于对可流动介质进行工艺流程处理的工艺流程系统；

-用于分析所述可流动介质的分析系统，其中，所述分析系统具有用于照射介质和接收测量辐射的光学测量头(1、1.1)；

-参考单元(11、11.1、11.2)，

其中，所述工艺流程系统具有测量区域，在工艺流程处理期间能将所述介质引入所述测量区域中，并且所述测量区域能为借助所述光学测量头(1、1.1)进行的测量所用，

其特征在于，

所述测量区域构造为流量盒(3、3.1)的内部区域，

存在用于使以能转动或能枢转的方式实施或者设有直线引导部的所述光学测量头(1、1.1)移向相对于所述测量区域和/或相对于所述参考单元(11、11.1、11.2)的限定的相对定位的运动机构，所述运动机构使得能以有选择的方式实现对位于所述测量区域内的介质的测量或对所述参考单元(11、11.1、11.2)的测量。

2.根据权利要求1所述的系统，

其特征在于，

存在用于使所述光学测量头(1、1.1)相对于所述测量区域和/或相对于所述参考单元(11、11.1、11.2)限定定位的至少一个机械止挡。

3.根据权利要求1至2中任一项所述的系统，

其特征在于，

存在用于确定所述光学测量头(1、1.1)相对于所述测量区域和/或相对于所述参考单元(11、11.1、11.2)的相对定位的至少一个传感器。

4.根据权利要求1至2中任一项所述的系统，

其特征在于，

所述光学测量头(1、1.1)具有测量区，所述测量区能够至少部分地与所述测量区域重合以用来进行测量，并且所述测量区在测量期间至少部分地被测量辐射穿透。

5.根据权利要求4所述的系统，

其特征在于，

所述测量区至少部分地布置在所述光学测量头(1、1.1)的呈U形的区域的侧边之间。

6.根据权利要求1-2中任一项所述的系统，

其特征在于，所述光学测量头(1、1.1)被设立成用于进行透射测量。

7.根据权利要求1-2中任一项所述的系统，

其特征在于，

测量路径的长度小于100mm。

8.根据权利要求7所述的系统，

其特征在于，

测量路径的长度小于10mm。

9.根据权利要求1-2中任一项所述的系统，

其特征在于，

所述参考单元(11、11.1、11.2)以能相对于所述工艺流程系统运动的方式构造。

10.根据权利要求1-2中任一项所述的系统，

其特征在于，

所述参考单元(11、11.1、11.2)构造为能以受引导的方式运动。

11.根据权利要求1-2中任一项所述的系统，

其特征在于，

所述参考单元(11、11.1、11.2)以能转动或能枢转的方式实施或者设有直线引导部。

12.根据权利要求1-2中任一项所述的系统，

其特征在于，

所述光学测量头(1、1.1)与传感器单元连接，所述传感器单元能以连同所述光学测量头(1、1.1)一起被引导的方式运动。