[发明专利]黑色膜形成用混合粉末及其制造方法有效
申请号: | 201780071901.1 | 申请日: | 2017-10-30 |
公开(公告)号: | CN110291042B | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 影山谦介;小西隆史 | 申请(专利权)人: | 三菱综合材料电子化成株式会社 |
主分类号: | C01B21/076 | 分类号: | C01B21/076 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 马倩;杨思捷 |
地址: | 日本秋田*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 黑色 形成 混合 粉末 及其 制造 方法 | ||
黑色膜形成用混合粉末,其包含氮化锆粉末(A)和氮化钛粉末或氧氮化钛粉末(B),所述氮化锆粉末(A)不含二氧化锆、低阶氧化锆和低阶氧氮化锆,氮化锆粉末(A)与氮化钛粉末或上述氧氮化钛粉末(B)的含有比例以质量比(A:B)计处于(90:10)~(25:75)的范围。在使混合粉末以50ppm的浓度分散于分散液而得的分散液光谱中,将波长400nm的光透射率记作X、将波长550nm的光透射率记作Y、将波长1000nm的光透射率记作Z时,X10%、Y10%、Z16%,且X/Y为1.25以上、Z/Y为2.0以下。
技术领域
本发明涉及适合用作绝缘性黑色颜料的黑色膜形成用混合粉末及其制造方法。更详细而言,涉及作为黑色颜料而形成黑色图案膜时使波长365nm~410nm的光透过而形成高分辨率的图案膜且遮蔽波长500nm~1100nm的光而使形成的图案膜具有高遮光性能的黑色膜形成用混合粉末及其制造方法。需要说明的是,本国际申请基于2016年11月22日申请的日本专利申请第226586号(特愿2016-226586)要求优先权,将日本特愿2016-226586的全部内容援引至本国际申请中。
背景技术
这种黑色颜料分散至感光性树脂而制备黑色感光性组合物,通过将该组合物涂布于基板而形成光致抗蚀膜,并利用光刻法对光致抗蚀膜照射紫外线,从而对光致抗蚀膜进行曝光而形成图案膜,由此可用于液晶显示器的滤色器等图像形成元件的黑色矩阵。以往作为黑色颜料的炭黑具有导电性,因此不适合要求绝缘性的用途。此外,炭黑遮蔽紫外线,因此难以形成高分辨率的图案膜,且可见光~近红外光的波长区域内的遮光性差。
以往,作为绝缘性高的黑色颜料,公开了如下的高电阻黑色粉末,其含有:由特定组成的也称为钛黑的钛氧氮化物构成的黑色粉末;由Y2O3、ZrO2、Al2O3、SiO2、TiO2、V2O5中的至少1种构成的绝缘粉末(例如参照专利文献1)。根据该黑色粉末,在制成黑色膜时,电阻值高、遮光性优异,因此据称其适合作为滤色器的黑色矩阵。专利文献1中记载了:含有该钛氧氮化物粉末和绝缘粉末的高电阻黑色粉末通过向原料氧化钛中添加绝缘粉末并进行氮化还原处理或者在氧化钛的氮化还原处理后添加绝缘粉末来制造,该氧化钛的氮化还原处理例如将作为原料的氧化钛粉末在氨气等还原性气体的气氛下加热至700~1000℃来进行。
此外,作为属于绝缘性的黑色颜料且包含氮化锆的物质,公开了如下的微粒低阶氧化锆-氮化锆复合体,其特征在于,在X射线衍射图谱中,具有低阶氧化锆的峰和氮化锆的峰,比表面积为10~60m2/g(例如参照专利文献2)。该微粒低阶氧化锆-氮化锆复合体经由将二氧化锆或氢氧化锆与氧化镁与金属镁的混合物在氮气或包含氮气的不活性气体气流中以650~800℃进行烧成的工序来制造。据称上述微粒低阶氧化锆-氮化锆复合体可用作黑色体系且导电性低的微粒材料,可以在使用炭黑等的电视机等显示器用途的黑色矩阵等中用作导电性更低的微粒黑色颜料,此外,据称根据上述制造方法能够以工业规模制造(量产)上述微粒低阶氧化锆-氮化锆复合体。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2008-266045号公报(权利要求1、权利要求5、[0002]段、[0010]段、[0020]段、[0021]段)
专利文献2:日本特开2009-091205号公报(权利要求1、权利要求2、[0015]段、[0016]段)。
发明内容
发明要解决的课题
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