[发明专利]聚合物组合物

说明书

本申请涉及聚合物组合物及其用途。本申请可以提供具有优异的自组装特性并且即使在未进行中性处理的表面上也能够形成垂直取向结构的聚合物组合物及其用途，其中可以在短时间内有效地形成垂直取向的自组装结构。

技术领域

本申请要求基于2016年11月30日提交的韩国专利申请第10-2016-0162138号的优先权的权益，其公开内容通过引用整体并入本文。

本申请涉及聚合物组合物及其用途。

背景技术

嵌段共聚物具有这样的分子结构：其中具有不同化学结构的聚合物链段经由共价键连接。嵌段共聚物可以通过相分离形成周期性排列的结构，例如球体、圆柱体或层状体。通过嵌段共聚物的自组装现象形成的结构的域尺寸可以被广泛地控制并且可以制造各种类型的结构，使得嵌段共聚物可以应用于高密度磁性存储介质、纳米线制造、各种下一代纳米装置(例如量子点或金属点或磁性记录介质)、或通过光刻的图案形成等。

发明内容

技术问题

本申请提供了聚合物组合物。

技术方案

本申请的聚合物组合物包含至少两种彼此具有不同数均分子量的嵌段共聚物。在本说明书中，为了方便起见，彼此具有不同数均分子量的两种嵌段共聚物中的任一种嵌段共聚物可以称为第一嵌段共聚物，而另一种嵌段共聚物可以称为第二嵌段共聚物。这样的名称仅用于使两种嵌段共聚物彼此区分，并且一种嵌段共聚物不优于另一种嵌段共聚物。

术语数均分子量为使用GPC(凝胶渗透色谱)测量的针对标准聚苯乙烯的换算值，并且除非另有说明，否则本文中的术语分子量意指数均分子量。

由于聚合物组合物如上包含两种嵌段共聚物，因此组合物可以表现出优异的自组装特性。特别地，聚合物组合物即使在表面未进行中性处理的基底上也可以表现出所谓的自组装特性。

在本说明书中，术语中性处理为包括在工业中称为所谓的中性刷层或化学预图案化等的处理的概念，其具有包括工业中为了实现垂直取向而进行的已知处理的含义。

各嵌段共聚物可以包含第一聚合物链段和不同于第一聚合物链段的第二聚合物链段。各嵌段共聚物可以为包含两种链段的二嵌段共聚物或者包含两种或更多种聚合物链段的嵌段共聚物。

包含在嵌段共聚物中的第一聚合物链段和第二聚合物链段为彼此不同的聚合物链段。