[发明专利]聚合物、正型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法有效
| 申请号： | 201780075900.4 | 申请日： | 2017-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN110050005B | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 星野学 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | C08F220/22 | 分类号： | C08F220/22;C08F212/06;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 赵曦;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 聚合物 正型抗蚀剂 组合 抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种聚合物，具有由下述通式(I)表示的单体单元A，以及由下述通式(II)表示的单体单元B，
式(I)中，R1为氟原子数为5以上且7以下的碳原子数为2以上且10以下的有机基团，
式(II)中，R2为氢原子、氟原子、非取代的碳原子数为1以上且5以下的烷基或氟原子取代的碳原子数为1以上且5以下的烷基，R3为氢原子、非取代的碳原子数为1以上且5以下的烷基或氟原子取代的碳原子数为1以上且5以下的烷基，p和q为0以上且5以下的整数，p+q＝5。
2.根据权利要求1所述的聚合物，其中，所述R1为五氟烷基。
3.根据权利要求1或2所述的聚合物，其中，所述R1为2,2,3,3,3-五氟丙基。
4.一种正型抗蚀剂组合物，包含权利要求1～3中任一项所述的聚合物，以及溶剂。
5.一种抗蚀剂图案形成方法，包含：
使用权利要求4所述的正型抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜的工序、
将所述抗蚀剂膜进行曝光的工序、以及
将所述曝光了的抗蚀剂膜进行显影的工序，
所述显影使用表面张力为17mN/m以下的显影液进行。
6.根据权利要求5所述的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述显影液包含氟系溶剂。
7.根据权利要求6所述的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述显影液为CF3CFHCFHCF2CF3。
8.根据权利要求5～7中任一项所述的抗蚀剂图案形成方法，其中，进行所述显影的显影时间为1分钟～3分钟。
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