[发明专利]量测目标的方法、量测设备、偏振器组件

权利要求书

1.一种测量通过光刻过程形成的目标的方法，所述目标包括在第一层中具有第一周期性结构和在第二层中具有第二周期性结构的分层结构，所述方法包括：

用偏振测量辐射照射所述目标；

检测来自所述目标的第零阶散射辐射；和

使用来自所述目标的检测的第零阶散射辐射来导出所述第一周期性结构中的不对称性，其中：

所述第一层与所述第二层之间的间隔使得所述检测的第零阶散射辐射与所述第一周期性结构与所述第二周期性结构之间的重叠误差无关。

2.如权利要求1所述的方法，其中：

第零阶散射辐射的所述检测包括检测所述第零阶散射辐射的交叉偏振分量，

所述不对称性的所述导出使用所述第零阶散射辐射的检测的交叉偏振分量。

3.如权利要求1所述的方法，还包括：

检测来自所述目标的高于第零阶的散射辐射；和

使用所述检测的第零阶散射辐射和检测的高于第零阶的散射辐射的组合来导出所述第一周期性结构与所述第二周期性结构之间的重叠误差。

4.如权利要求3所述的方法，其中：

所述检测的高于第零阶的散射辐射包含来自所述第一周期性结构与所述第二周期性结构之间的所述重叠误差的贡献和来自所述第一周期性结构中的所述不对称性的贡献；和

使用所述检测的第零阶散射辐射导出的所述第一周期性结构中的所述不对称性用以从所述检测的高于第零阶的散射辐射提取所述重叠误差。

5.如权利要求3所述的方法，其中：

所述测量辐射包括第一波长带中的第一辐射和第二波长带中的第二辐射，所述第一波长带不同于所述第二波长带且不与所述第二波长带重叠；

所述检测的第零阶散射辐射主要由所述第一辐射提供；

所述检测的高于第零阶的散射辐射主要由所述第二辐射提供。

6.如权利要求5所述的方法，其中所述第一波长带高于所述第二波长带。

7.如权利要求6所述的方法，其中从所述第一辐射自所述目标散射并不导出传播的高于第零阶的散射辐射。

8.如权利要求5至7中任一权利要求所述的方法，其中独立于来自所述第二辐射自所述目标散射的散射辐射，检测来自所述第一辐射自所述目标散射的散射辐射。

9.如权利要求5至7中任一权利要求所述的方法，其中所述导出所述第一周期性结构中的所述不对称性使用校准数据或计算重构。

10.如权利要求5至7中任一权利要求所述的方法，其中在光刻显影步骤之后但在后续蚀刻步骤之前将所述方法应用至目标。

11.如权利要求5至7中任一权利要求所述的方法，其中所述第一层与所述第二层之间的所述间隔大于λ/20，其中λ为贡献于所述检测的第零阶散射辐射的测量辐射的波长。

12.如权利要求5至7中任一权利要求所述的方法，其中所述第一周期性结构和所述第二周期性结构各自包括具有相同节距和方向的周期性分量。

13.如权利要求12所述的方法，其中所述周期性分量的所述节距和贡献于所述检测的第零阶散射辐射的测量辐射的波长使得所述第一周期性结构的周期性分量或所述第二周期性结构的周期性分量通过贡献于所述检测的第零阶散射辐射的所述测量辐射并不产生传播的高于第零阶的散射辐射。