[发明专利]用于预测测量方法的性能的方法和设备、测量方法和设备

权利要求书

1.一种预测测量方法的性能的方法，所述测量方法基于由光刻过程形成的一个或更多个目标结构内的周期性特征的衍射光谱中的不对称性，所述预测性能的方法包括以下步骤：

(a)使用由所述目标结构衍射的辐射的所述衍射光谱的对称地相对的部分来形成所述目标结构的第一图像和第二图像；

(b)从所述第一图像和所述第二图像，导出在所述衍射光谱的相对的部分之间的强度的对称性和不对称性的多个局部测量，对称性和不对称性的每个局部测量对应于所述目标结构上的具体部位；和

(c)基于对称性值和不对称性值的所述局部测量的统计分析，确定对所述测量方法的性能的预测。

2.根据权利要求1所述的方法，其中使用不同测量条件重复步骤(a)至(c)以获得在不同测量条件下对所述测量方法的性能的预测。

3.根据权利要求2所述的方法，还包括执行所述测量方法以获得相同目标结构的特性的测量的步骤(d)，其中在步骤(d)中，使用通过比较所获得的性能的预测而选择的测量条件来执行所述测量方法。

4.根据权利要求1所述的方法，还包括执行所述测量方法以获得对相同目标结构的特性的测量的步骤(d)。

5.根据权利要求3或4所述的方法，还包括步骤(e)：与所述测量方法的性能的预测一起报告对所述目标结构的所述特性的所述测量。

6.根据权利要求3或4所述的方法，其中步骤(d)还包括使用在步骤(c)中获得的性能的所述预测将校正应用至所述特性的所述测量。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述校正基于在步骤(c)中获得的性能的所述预测和所述相同目标结构的额外特性的测量。

8.根据权利要求7所述的方法，其中在步骤(d)中，对所述目标结构的所述特性的所述测量基于在所述相同目标结构内的两个或更多个目标结构之间观测到的不对称性的差异，且对额外特性的所述测量基于在所述两个或更多个周期性结构之间观测到的对称性的差异。

9.根据权利要求8所述的方法，还包括步骤(e)：与对所述测量方法的性能的预测一起报告对所述目标结构的所述特性的所述测量。

10.根据权利要求4所述的方法，其中针对通过光刻在多个衬底上形成的目标结构重复所述步骤(d)，且针对每个衬底至少重复所述步骤(a)至(c)。

11.根据权利要求10所述的方法，其中针对通过光刻在一个衬底上形成的多个目标结构重复所述步骤(d)，且针对同一衬底上的多个目标结构重复所述步骤(a)至(c)。

12.根据权利要求4所述的方法，其中在所述步骤(d)中，所述测量方法基于对所述衍射光谱的相对的部分之间的强度的不对称性的一个或更多个全局测量，每个全局测量不对称性与所述第一图像和所述第二图像中的每个图像中的关注区对应，相比于对称性和不对称性的所述局部测量，所述关注区延伸遍及所述目标结构的较大区域。

13.根据权利要求4所述的方法，其中在所述步骤(d)中，所述测量方法基于不对称性彼此相差经编程的偏置量的两个或更多个目标结构的不对称性的全局测量。

14.根据权利要求13所述的方法，其中在步骤(a)至(c)中，所述测量方法的性能的所述预测基于对一个这种目标结构进行的局部测量。

15.根据权利要求13所述的方法，其中在步骤(a)至(c)中，所述测量方法的性能的所述预测基于对两个或更多个这种目标结构进行的局部测量。