[发明专利]厌氧性细菌等细菌与上皮细胞的共培养装置及共培养方法在审

专利信息
申请号: 201780077207.0 申请日: 2017-10-30
公开(公告)号: CN110072988A 公开(公告)日: 2019-07-30
发明(设计)人: 片山高岭;神户大朋 申请(专利权)人: 国立大学法人京都大学
主分类号: C12M1/00 分类号: C12M1/00;C12M3/00;C12M3/04;C12N1/20;C12N5/071
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 沈雪
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 细胞组 培养槽 厌氧性细菌 上皮细胞 细胞层 细胞 培养系统 物质交换 培养液 细菌 共培养装置 方式配置 方式设置 厌氧条件 需氧 储存 覆盖
【权利要求书】:

1.一种培养系统,其用于将第1细胞组和由第2细胞组形成的细胞层或组织进行共培养,所述第1细胞组由1种或多种细胞构成,所述第2细胞组由与第1细胞组不同的1种或多种细胞构成,

所述培养系统具有:

将所述第1细胞组与由所述第2细胞组形成的细胞层或组织在厌氧条件下进行共培养的第1培养槽;

在需氧条件下储存培养液的第2培养槽;以及

以覆盖该第1培养槽侧的表面的方式保持所述细胞层或组织、且以连接所述第1培养槽和所述第2培养槽的方式设置的1个或多个物质交换结构体。

2.根据权利要求1所述的培养系统,其在所述第1培养槽与所述第2培养槽的连接部具备非透气性的密封构件,所述密封构件以使除了所述物质交换结构体以外的所述第2培养槽的内部处于封闭状态的方式,使在该第2培养槽与所述第1培养槽之间开放的部分设为关闭的状态。

3.根据权利要求1或2所述的培养系统,其中,所述第2培养槽具备将该第2培养槽中向外部开放的部分进行密封的透气性的保湿构件,且除了由该保湿构件密封了的部分以外,未向外部开放。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的培养系统,其中,

所述第1培养槽具备:

在其内部的多个局部结构、和

与所述物质交换结构体不同的物质交换结构体,

该局部结构各自作为培养槽发挥作用,

该局部结构各自通过所述不同的物质交换结构体相互连接,

该多个局部结构分别与所述第2培养槽连接。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的培养系统,其配置在厌氧培养室内的环境中使用。

6.一种培养系统,其具有第1培养槽和第2培养槽,是进行细菌与由上皮细胞形成的细胞层的共培养的培养系统,

所述第1培养槽配置有设置在其底面的1个或多个物质交换结构体,且以覆盖该物质交换结构体的顶面的方式配置有所述细胞层,

所述第2培养槽是储存需氧条件的培养液的槽,且该第2培养槽具有用于将所述第1培养槽插入其槽内的开口部,

所述第1培养槽从所述第2培养槽的开口部插入,使得配置于所述第1培养槽的底面的物质交换结构体浸渍于该槽中储存的所述需氧条件的培养液,

所述培养系统在所述第1培养槽与所述第2培养槽的连接部具备非透气性的密封构件,所述密封构件以使除了所述物质交换结构体以外的所述第2培养槽的内部处于封闭状态的方式,使在该第2培养槽与所述第1培养槽之间开放的部分设为关闭的状态,

所述培养系统具备以将位于所述第2培养槽的顶面且向外部开放的部分进行密闭的方式设置的透气性的保湿构件,且所述第1培养槽处于厌氧条件下。

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