[发明专利]辐射源设备和方法、光刻设备和检查设备有效
申请号: | 201780077241.8 | 申请日: | 2017-11-22 |
公开(公告)号: | CN110088682B | 公开(公告)日: | 2022-06-10 |
发明(设计)人: | N·斯伯克;P·C·M·普兰肯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H05G2/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 辐射源 设备 方法 光刻 检查 | ||
1.一种用于提供位于第一波段的第一辐射的设备,所述第一辐射是激光激发产生的等离子体,所述设备包括:
-系统,配置成将位于第二波段的第二辐射引导到靶上,以引起生成所述第一辐射;并配置成在传递所述第二辐射之前和/或期间将第三辐射引导到所述靶上,所述第三辐射以使得产生具有能量的空间分布的电磁场的方式被传递,所述能量的空间分布包括跨所述靶的多个峰和谷,以便引起所述靶的性质产生对应的空间变化,
其中,所述系统配置成传递所述第三辐射的两个或更多个束,所述两个或更多个束干涉以产生所述电磁场;或
所述系统配置成经由空间光调制器引导所述第三辐射的一个或更多个束,以产生所述电磁场。
2.根据权利要求1所述的设备,其中,所述能量的空间分布在一个或更多个方向上是重复的。
3.根据权利要求1或2所述的设备,其中,所述靶的性质的所述空间变化包括所述靶的有效折射率的变化。
4.根据权利要求1所述的设备,其中,所述靶的性质的变化包括所述靶中的燃料材料内的电子气体的介电函数的空间变化。
5.根据权利要求1所述的设备,其中,所述靶的性质的变化包括所述靶中的不同点处的燃料材料密度的变化。
6.根据权利要求5所述的设备,其中,所述燃料材料密度的变化至少部分起源于所述靶中的多个点处材料的烧蚀。
7.根据权利要求4或5或6所述的设备,还包括靶材料供应器,所述靶材料供应器用于提供呈液态金属液滴形式的所述燃料材料。
8.根据权利要求7所述的设备,其中,在操作中,当所述第三辐射被传递时,所述靶包括液态金属液滴。
9.根据权利要求7所述的设备,其中,在操作中,当所述第三辐射被传递时,所述靶至少部分地包括液态金属的雾。
10.根据权利要求4或5所述的设备,其中,在操作中,在所述靶与所述第三辐射相互作用后,所述靶至少部分地包括等离子体。
11.根据权利要求1所述的设备,其中,所述系统还配置成在传递所述第三辐射之前,利用预脉冲辐射照射一数量的被照射的燃料材料以形成所述靶。
12.根据权利要求11所述的设备,还包括靶材料供应器,所述靶材料供应器用于在所述预脉冲辐射被传递时提供呈液态金属液滴形式的所述燃料材料。
13.根据权利要求11或12所述的设备,其中,当所述第三辐射被传递时,所述靶包括燃料材料的变平坦的液滴或云或雾。
14.根据权利要求1所述的设备,其中,所述系统能够操作以在与一个靶相互作用期间随时间调制所述电磁场的能量的空间分布。
15.根据权利要求1所述的设备,其中,所述系统能够操作以在与一系列靶相互作用期间随时间调制所述电磁场的能量的空间分布,以在一个或更多个参数优化所述设备的性能。
16.根据权利要求1所述的设备,其中,所述系统能够操作以针对所述第二辐射的给定波长、偏振和入射角将所述靶的性质的所述空间变化调整到所述靶的燃料材料表面的表面等离子体激元激发条件。
17.根据权利要求16所述的设备,其中,所述第二辐射的入射角垂直于所述燃料材料表面。
18.根据权利要求1所述的设备,其中,所述第三辐射的波长短于所述第二辐射的波长。
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