[发明专利]基板处理方法、送液方法以及基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理方法，包含：

药液供给步骤，将含有离子的药液供给至基板的表面；

低纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤之后执行，并将含有杂质的低纯度冲洗液供给至所述基板的表面，所述杂质通过与所述药液所含有的所述离子相互作用而形成起因于盐析的析出物；以及

高纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤与所述低纯度冲洗液供给步骤之间执行，用于通过将所含有的所述杂质的量比所述低纯度冲洗液少的高纯度冲洗液供给至所述基板的表面，来抑制形成起因于盐析的析出物。

2.如权利要求1所记载的基板处理方法，其中，

所述药液包含有酸性的水溶液；

所述低纯度冲洗液含有作为所述杂质的有机物。

3.如权利要求2所记载的基板处理方法，其中，

所述酸性的水溶液含有盐酸。

4.如权利要求1或2所记载的基板处理方法，其中，

所述低纯度冲洗液包含含有二氧化碳的碳酸含有液。

5.如权利要求1或2所记载的基板处理方法，其中，包含：

第二低纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤之前执行，用以将所述低纯度冲洗液供给至所述基板的表面；以及

第二高纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤与所述第二低纯度冲洗液供给步骤之间执行，用以将所述高纯度冲洗液供给至所述基板的表面。

6.一种送液方法，用以经由共通流路送液至喷嘴，该送液方法包含：

流路药液供给步骤，将含有离子的药液供给至所述共通流路；

流路低纯度冲洗液供给步骤，在所述流路药液供给步骤之后，将含有杂质的低纯度冲洗液供给至所述共通流路，所述杂质通过与所述药液所含有的所述离子相互作用而形成析出物；以及

流路高纯度冲洗液供给步骤，在所述流路药液供给步骤与所述流路低纯度冲洗液供给步骤之间，将所含有的所述杂质的量比所述低纯度冲洗液少的高纯度冲洗液供给至所述共通流路。

7.如权利要求6所记载的送液方法，其中，

所述药液包含有酸性的水溶液；

所述低纯度冲洗液含有作为所述杂质的有机物。

8.如权利要求7所记载的送液方法，其中，

所述酸性的水溶液含有盐酸。

9.如权利要求6或7所记载的送液方法，其中，

所述低纯度冲洗液包含含有二氧化碳的碳酸含有液。

10.如权利要求6或7所记载的送液方法，其中，包含：

第二流路低纯度冲洗液供给步骤，在所述流路药液供给步骤之前执行，用以将所述低纯度冲洗液供给至所述共通流路；以及

第二流路高纯度冲洗液供给步骤，在所述流路药液供给步骤与所述第二流路低纯度冲洗液供给步骤之间执行，用以将所述高纯度冲洗液供给至所述共通流路。

11.一种基板处理装置，包含：

药液供给单元，将含有离子的药液供给至基板的表面；

低纯度冲洗液供给单元，将能含有杂质的低纯度冲洗液供给至所述基板的表面，所述杂质通过与所述药液所含有的离子相互作用而形成起因于盐析的析出物；

高纯度冲洗液供给单元，将所含有的所述杂质的量比所述低纯度冲洗液少的高纯度冲洗液供给至所述基板的表面；以及

控制器，控制所述药液供给单元、所述低纯度冲洗液供给单元以及所述高纯度冲洗液供给单元，

所述控制器编程为执行：

药液供给步骤，将所述药液供给至所述基板的表面；以及

低纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤之后将所述低纯度冲洗液供给至所述基板的表面；

并且，所述控制器在所述药液供给步骤与所述低纯度冲洗液供给步骤之间执行用以通过将所述高纯度冲洗液供给至所述基板的表面来抑制形成起因于盐析的析出物的高纯度冲洗液供给步骤。