[发明专利]显影处理方法、计算机存储介质和显影处理装置

权利要求书

1.一种显影处理方法，其为对基板上的抗蚀膜进行显影处理的显影处理方法，所述方法包括如下工序：

图案形成工序，对基板供给显影液而使基板上的抗蚀膜显影来形成抗蚀图案；

涂布工序，对经显影的基板涂布水溶性聚合物的水溶液；以及

冲洗工序，对所述涂布了水溶性聚合物的水溶液的基板供给冲洗液来清洗基板。

2.根据权利要求1所述的显影处理方法，其包括如下工序：

清洗工序，在所述图案形成工序之后且所述涂布工序之前，对经显影的基板供给水系清洗液来清洗基板。

3.根据权利要求1所述的显影处理方法，其中，

所述水溶性聚合物为包含亲水性基团的单体的均聚物或共聚物或者具有亲水性基团的缩聚物。

4.根据权利要求3所述的显影处理方法，其中，

所述水溶性聚合物的水溶液添加了表面活性剂。

5.根据权利要求1所述的显影处理方法，其中，

所述水溶性聚合物的水溶液的pH为3～6。

6.根据权利要求1所述的显影处理方法，其中，

所述冲洗液含有表面活性剂。

7.根据权利要求2所述的显影处理方法，其包括如下工序：

干燥工序，在所述清洗工序之后且所述涂布工序之前，使基板干燥。

8.根据权利要求7所述的显影处理方法，其中，

所述干燥工序包括使基板旋转低于10秒的时间的工序。

9.根据权利要求1所述的显影处理方法，其包括如下工序：

加热工序，在所述涂布工序之后且所述冲洗工序之前，对基板进行加热。

10.一种可读取的计算机存储介质，其存储有在控制部的计算机上工作的程序，所述控制部控制显影处理装置，以使该显影处理装置执行对基板上的抗蚀膜进行显影处理的显影处理方法，

所述显影处理方法包括如下工序：

图案形成工序，对基板供给显影液而使基板上的抗蚀膜显影来形成抗蚀图案；

涂布工序，对经显影的基板涂布水溶性聚合物的水溶液；以及

冲洗工序，对所述涂布了水溶性聚合物的水溶液的基板供给冲洗液来清洗基板。

11.一种显影处理装置，其为对基板上的抗蚀膜进行显影处理的显影处理装置，其具有：

基板保持部，其保持基板；

显影液供给喷嘴，其对基板供给显影液；

水溶液供给喷嘴，其对基板供给水溶性聚合物的水溶液；

冲洗液供给喷嘴，其对基板供给冲洗液；以及

控制部，

所述控制部构成为对所述显影液供给喷嘴、所述水溶液供给喷嘴和所述冲洗液供给喷嘴进行控制，以执行如下工序：

图案形成工序，对基板供给显影液而使基板上的抗蚀膜显影来形成抗蚀图案；

涂布工序，对经显影的基板涂布水溶性聚合物的水溶液；以及

冲洗工序，对所述涂布了水溶性聚合物的水溶液的基板供给冲洗液来清洗基板。

12.根据权利要求11所述的显影处理装置，其具备对基板供给水系清洗液的水系清洗液供给喷嘴，

所述控制部构成为在所述图案形成工序之后且所述涂布工序之前，控制所述水系清洗液供给喷嘴，以执行对经显影的基板供给水系清洗液来清洗基板的清洗工序。

13.根据权利要求11所述的显影处理装置，其中，

所述水溶性聚合物为包含亲水性基团的单体的均聚物或共聚物或者具有亲水性基团的缩聚物。

14.根据权利要求13所述的显影处理装置，其中，

所述水溶性聚合物的水溶液添加了表面活性剂。