[发明专利]紧密的锁模雷射模块

权利要求书

1.一种锁模雷射模块，其包括：

基底底盘；

锁模雷射，其具有组装在该基底底盘上之雷射腔；

输出耦合器，其安装在该雷射腔之第一端处之第一座架上，其中该第一座架不提供相对于入射于该输出耦合器上之腔内光束之光学轴线对该输出耦合器之角度调整；

可饱和吸收镜，其安装在该雷射腔之第二端处之第二座架上，其中该第二座架不提供相对于入射于该可饱和吸收镜上之该腔内光束之该光学轴线对该可饱和吸收镜之角度调整；及

增益介质，其位于该可饱和吸收镜与该输出耦合器之间的光学轴线上，其中，该腔内光束在该增益介质内之第一光束腰宽介于100微米与150微米之间，且该腔内光束在该可饱和吸收镜处之第二光束腰宽介于75微米与125微米之间。

2.根据权利要求1所述的锁模雷射模块，其进一步包括经配置以用泵束激发该增益介质之泵源，其中在该增益介质中对该泵束之吸收导致热透镜化。

3.根据权利要求1所述的锁模雷射模块，其中该增益介质包括安置在座架中且不具有主动冷却之固态晶体。

4.根据权利要求2所述的锁模雷射模块，其中该锁模雷射针对由于该泵束之光学功率之改变而在自8屈亮度至12屈亮度之范围内变化之热透镜化值，在不对该雷射腔进行机械调整之情况下稳定地产生光学脉冲。

5.根据权利要求2所述的锁模雷射模块，其中该锁模雷射针对由于该泵束之光学功率之改变而在自1屈亮度至15屈亮度之范围内变化之热透镜化值稳定地产生光学脉冲。

6.根据权利要求5所述的锁模雷射模块，其中该泵束之该光学功率之该改变介于2瓦与10瓦之间，且来自该锁模雷射模块之平均输出光学功率介于350毫瓦与3.5瓦之间。

7.根据权利要求4或5所述的锁模雷射模块，其中该光学脉冲之脉冲重复速率介于50MHz与200MHz之间，且该基底底盘之最大边缘长度不大于350mm。

8.根据权利要求4或5所述的锁模雷射模块，其中该光学脉冲之脉冲重复速率介于50MHz与200MHz之间，并且其中该模块具有最大边缘长度量测为不大于350mm且厚度量测为不大于40mm之板条形式，且该模块之重量不多于2千克。

9.根据权利要求4或5所述的锁模雷射模块，其中该光学脉冲之脉冲重复速率介于50MHz与200Mhz之间，且其中由该锁模雷射模块占据之最大体积不大于0.1立方英尺。

10.根据权利要求4或5所述的锁模雷射模块，其中该光学脉冲之半高全宽脉冲宽度介于9皮秒与38皮秒之间。

11.根据权利要求1所述的锁模雷射模块，其中该增益介质包括钒酸钕(Nd³⁺:YVO₄)。

12.根据权利要求1所述的锁模雷射模块，其进一步包括跨越该底盘对角地延伸之增加该底盘之抗扭劲度之对角肋，其中该雷射腔之腔内光束穿过该对角肋中之多个开口。

13.根据权利要求1所述的锁模雷射模块，其中，该可饱和吸收镜安装在该雷射腔之端处之板上，其中该板经组态而以仅两个自由度来调整，该两个自由度不包含相对于该雷射腔之入射于该可饱和吸收镜上之腔内光束之光学轴线进行之角度调整。

14.根据权利要求13所述的锁模雷射模块，其中该板包括具有金属涂层之印刷电路板，或该板包括金属板。