[发明专利]极性弹性体微结构及其制造方法

权利要求书

1.一种制造极性弹性体的微结构的方法，所述方法包括：

用包含极性弹性体的电介质材料涂覆基材；

用光致抗蚀剂涂覆电介质材料；

使光致抗蚀剂通过光掩模暴露于紫外(UV)光，以在光致抗蚀剂上限定图案；

对光致抗蚀剂进行显影以在光致抗蚀剂上形成图案；

对电介质材料进行蚀刻以将图案从光致抗蚀剂转移到电介质材料；以及

从经过图案化的电介质材料移除光致抗蚀剂。

2.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括：

在对光致抗蚀剂进行显影之后并在对电介质材料进行蚀刻之前，对光致抗蚀剂进行后烘。

3.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其包括：在整个过程期间，将光致抗蚀剂维持在低于光致抗蚀剂的玻璃化转变温度的温度。

4.如权利要求1-3中任一项所述的方法，其包括：在整个过程期间，将基材、电介质材料和光致抗蚀剂维持在低于200℃的温度。

5.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其包括：在整个过程期间，将光致抗蚀剂维持在低于约125℃的温度。

6.如权利要求1-5中任一项所述的方法，其中，所述蚀刻包括：

使用等离子体或反应离子蚀刻工具中的至少一种对电介质材料进行干法蚀刻。

7.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其中，极性弹性体包括含氟弹性体。

8.如权利要求7所述的方法，其中，极性弹性体包括聚(偏二氟乙烯-共-六氟丙烯)(e-PVDF-HFP)。

9.如权利要求7或权利要求8所述的方法，其中，极性弹性体具有双层电容性质。

10.一种制造极性弹性体的微结构的方法，所述方法包括：

用包含极性弹性体的电介质材料涂覆基材；

用金属涂覆电介质材料；

用光致抗蚀剂涂覆金属；

使光致抗蚀剂通过光掩模暴露于紫外(UV)光，以在光致抗蚀剂上限定图案；

对光致抗蚀剂进行显影以在光致抗蚀剂上形成图案；

对金属进行蚀刻以将图案从光致抗蚀剂转移到金属；以及

从经过图案化的金属移除光致抗蚀剂。

11.如权利要求10所述的方法，所述方法还包括：

对电介质材料进行蚀刻以将图案从金属转移到电介质材料。

12.如权利要求10或权利要求11所述的方法，其还包括：

从经过图案化的电介质材料移除经过图案化的金属。

13.一种用于制造极性弹性体的微结构的方法，所述方法包括：

用包含极性弹性体的电介质材料涂覆基材；

用第一金属涂覆电介质材料；

用第二金属涂覆第一金属；

用光致抗蚀剂涂覆第二金属；

使光致抗蚀剂通过光掩模暴露于紫外(UV)光，以在光致抗蚀剂上限定图案；

对光致抗蚀剂进行显影以在光致抗蚀剂上形成图案；

对第二金属进行蚀刻以将图案从光致抗蚀剂转移到第二金属；以及

对第一金属进行蚀刻以将图案从第二金属转移到第一金属。

14.如权利要求13所述的方法，所述方法还包括：

从第二金属移除光致抗蚀剂。

15.如权利要求13或权利要求14所述的方法，其还包括：

在对光致抗蚀剂进行显影之后并在对第二金属进行蚀刻之前，对光致抗蚀剂进行后烘。